[实用新型]一种用于团簇束流沉积的超高真空腔体

说明书

本实用新型涉及一种用于团簇束流沉积的超高真空腔体，包括圆柱形腔体，圆柱形腔体的前后两端开口处均设有一个第一法兰接口，两个第一法兰接口的外侧均设有一个第二法兰接口，圆柱形腔体的上下两侧分别设有互为对角设置的第三法兰接口和第四法兰接口；圆柱形腔体的左右两侧还均设有一个第五法兰接口和一个第六法兰接口，圆柱形腔体的上侧还设有第七法兰接口，圆柱形腔体的左右两侧还分别设有第八法兰接口和第九法兰接口；本实用新型体积小，重量轻，便于移动，且法兰接口的布置整齐合理，利于操作。

技术领域

本实用新型涉及一种用于团簇束流沉积的超高真空腔体。

背景技术

在对纳米材料进行团簇束流沉积实验中，必须用到超高真空腔体来构建一个真空密闭的实验空间，现有的超高真空腔体体积大，重量重，移动较为不便，而且法兰接口的布置较为杂乱，导致操作也较为不便，有待于进一步改进。

实用新型内容

针对上述现有技术的现状，本实用新型所要解决的技术问题在于提供一种体积小，重量轻，便于移动，且利于操作的用于团簇束流沉积的超高真空腔体。

本实用新型解决上述技术问题所采用的技术方案为：一种用于团簇束流沉积的超高真空腔体，包括圆柱形腔体，其特征在于，所述圆柱形腔体的前后两端开口处均设有一个第一法兰接口，两个所述第一法兰接口的外侧均设有一个第二法兰接口，所述圆柱形腔体的上下两侧分别设有互为对角设置的第三法兰接口和第四法兰接口；所述圆柱形腔体的左右两侧均设有一个第五法兰接口和一个第六法兰接口，所述第六法兰接口设于第五法兰接口的后侧；所述圆柱形腔体的上侧还设有第七法兰接口，所述第七法兰接口设于第三法兰接口的后侧；所述圆柱形腔体的左右两侧还分别设有第八法兰接口和第九法兰接口，所述第九法兰接口设于第三法兰接口和右侧的一个第五法兰接口之间，所述第八法兰接口设于第三法兰接口和左侧的一个第五法兰接口之间。

优选地，所述圆柱形腔体采用型号为316L的无缝不锈钢管制成。

优选地，所述第三法兰接口、所述第四法兰接口、所述第七法兰接口、所述第八法兰接口、所述第九法兰接口、两个所述第一法兰接口、两个所述第五法兰接口、两个所述第六法兰接口和两个所述第二法兰接口均采用型号为304的不锈钢管制成。

优选地，还包括连接板；所述连接板横向固定在第四法兰接口的下端开口处外侧。

与现有技术相比，本实用新型的优点在于：本实用新型体积小，重量轻，便于移动，且法兰接口的布置整齐合理，利于操作。

附图说明

图1为本实用新型的右前侧结构图。

具体实施方式

如图1所示，一种用于团簇束流沉积的超高真空腔体，包括圆柱形腔体1，圆柱形腔体1的前后两端开口处均设有一个第一法兰接口2，两个第一法兰接口2的外侧均设有一个第二法兰接口9，圆柱形腔体1的上下两侧分别设有互为对角设置的第三法兰接口10和第四法兰接口3；圆柱形腔体1的左右两侧还均设有一个第五法兰接口8和一个第六法兰接口5，第六法兰接口5设于第五法兰接口8的后侧，圆柱形腔体1的上侧还设有第七法兰接口6，第七法兰接口6设于第三法兰接口10的后侧，圆柱形腔体1的左右两侧还分别设有第八法兰接口7和第九法兰接口4，第九法兰接口4设于第三法兰接口10和右侧的一个第五法兰接口8之间，第八法兰接口7设于第三法兰接口10和左侧的一个第五法兰接口8之间；圆柱形腔体1采用型号为316L的无缝不锈钢管制成，第三法兰接口10、第四法兰接口3、第七法兰接口6、第八法兰接口7、第九法兰接口4、两个第一法兰接口2、两个第五法兰接口8、两个第六法兰接口5和两个第二法兰接口9均采用型号为304的不锈钢管制成。

在本实用新型的一个优选实施例中，一种用于团簇束流沉积的超高真空腔体还包括连接板11；连接板11横向固定在第四法兰接口3的下端开口处外侧。