[发明专利]一种缩减雷达散射截面的高透明度漫反射超表面在审
申请号: | 202011608676.0 | 申请日: | 2020-12-29 |
公开(公告)号: | CN112821079A | 公开(公告)日: | 2021-05-18 |
发明(设计)人: | 黄双;魏雅琪;陈源宝;谢刚;赵雨桐;陈佳;陈建忠 | 申请(专利权)人: | 武汉第二船舶设计研究所(中国船舶重工集团公司第七一九研究所) |
主分类号: | H01Q15/00 | 分类号: | H01Q15/00 |
代理公司: | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人: | 代丽 |
地址: | 430064 湖北省武汉*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 缩减 雷达 散射 截面 透明度 漫反射 表面 | ||
本发明公开了一种缩减雷达散射截面的高透明度漫反射超表面。本发明的漫反射超表面,从上至下依次为:顶层、中间层和底层;其中,底层为ITO;中间层为光学透明的介质层;顶层为具有两种外轮廓均为圆形闵可夫斯基环的金属网;以两种圆形闵可夫斯基环金属网为基本单元,在工作频段范围内,两种基本单元幅值近似相等、相位相差180°±30°。其中一种基本单元的相位可归为0°,称为“0”元素;另一种的相位可归为180°,称为“1”元素。两种基本单元具有自相似性与极化不敏感的特点。本发明漫反射超表面具有透光率高、易于实现,能够在较宽的频率范围内具有明显的缩减后向RCS的功能。
技术领域
本发明涉及人工电磁材料技术领域,具体涉及一种缩减雷达散射截面的高透明度漫反射超表面。
背景技术
随着雷达和防空技术的不断发展,军事探测技术和隐身技术迅速成熟,目标的隐身性能已成为提高其生存能力和穿透能力的关键因素。近年来,已经提出了许多缩减RCS的方法。电磁超材料作为一种人造复合材料,为电磁隐身技术提供了许多新的思路。通过设计不同的结构单元,电磁超材料可以灵活地调节电磁波的状态以实现特定功能,例如具有异常的反射和折射效应的相位梯度超表面(PGM)、通过共振吸收来减少后向散射的超材料吸收器(MA)、通过结合AMC单元和PEC单元使产生的反射波之间的相消干涉,从而缩减物体的RCS等。
例如,东南大学在其申请的名称为“一种宽带吸收、散射可调超表面”(申请号,201910186499.2;授权公告号,CN 109904623 A)专利文献中,公开了一种宽频带吸波、散射可调超表面,该超表面由相同单元周期排列组成,所述单元由上层金属结构、有源器件、中层介质及下层金属背板构成。该超表面在8GHz-10GHz频带内垂直反射率动态可调、散射方向图动态可调。
然而,现有的飞机隐身涂层均为非透明的,但飞机座舱、舰船驾驶舱、仪器表盘等透明玻璃部件均存在隐身需求,这成了目前隐身技术的一个短板。随着下一代隐身飞机与舰船综合隐身技术的发展,对透明玻璃部件的隐身涂覆材料提出更高要求。
发明内容
有鉴于此,本发明提供了一种缩减雷达散射截面的高透明度漫反射超表面,采用栅格状的金属网来代替金属面来提高整体的透明度,利用圆形闵可夫斯基环,使得基本单元的幅值相等、相位相差180°±30°;本发明漫反射超表面具有透光率高、易于实现,能够在较宽的频率范围内具有明显的缩减后向RCS的功能。
本发明的漫反射超表面,从上至下依次为:顶层、中间层和底层;其中,底层为ITO;中间层为光学透明的介质层;顶层为具有两种外轮廓均为圆形闵可夫斯基环的金属网;以两种圆形闵可夫斯基环金属网为基本单元,在工作频段范围内,两种基本单元幅值近似相等、相位相差180°±30°。其中一种基本单元的相位可归为0°,称为“0”元素;另一种的相位可归为180°,称为“1”元素。两种基本单元具有自相似性与极化不敏感的特点。通过排布“0”元素和“1”元素,获得漫反射超表面。
较优的,可以将两种基本单元分别组成N×N阵列后,N≥2;再以阵列的形式进行排布优化布局,以近似满足每个基本单元都是周期排布结构。通过优化子阵的排布方式,使得漫反射超表面的散射波束随机分布到上半空间,得到较佳的漫反射效果的超表面。
较优的,所述两种金属网中,其圆形闵可夫斯基环中的参数w相等,通过改变参数r和参数l,使得两种基本单元的幅值相等、相位相差180°。
较优的,所述w小于r2;r2为两种基本单元中圆形闵可夫斯基环较小者的半径。
较优的,所述两种金属丝网的圆形闵可夫斯基环的尺寸r、w、l分别为:r1=3.3mm、w1=1mm、l1=2.1mm,以及r2=1.7mm,w2=1mm,l2=0.7mm。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉第二船舶设计研究所(中国船舶重工集团公司第七一九研究所),未经武汉第二船舶设计研究所(中国船舶重工集团公司第七一九研究所)许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011608676.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。