[发明专利]一种抗污聚丙烯无纺布及其制备方法

说明书

本发明公开了一种抗污聚丙烯无纺布，包括基布和粘附在基布表面的抗污层，基布的原料按重量份包括：聚丙烯80‑90份、硅烷偶联剂改性二氧化钛10‑20份、引发剂0.05‑0.1份、相容剂1‑2份；抗污层为聚甲基丙烯酸十二氟庚酯层。本发明还公开了上述抗污聚丙烯无纺布的制备方法，包括如下步骤：S1、在基布表面涂覆二苯甲酮溶液，浸润，然后紫外光照射，洗涤，干燥得到布料A；S2、在布料A表面涂覆甲基丙烯酸十二氟庚酯溶液，浸润，然后紫外光照射，洗涤，干燥得到布抗污聚丙烯无纺布。本发明表面能较低，具有良好的抗污性能。

技术领域

本发明涉及无纺布技术领域，尤其涉及一种抗污聚丙烯无纺布及其制备方法。

背景技术

聚丙烯无纺布具有蓬松、手感好、柔软度适中、透气性好等优点，可以制成手提袋、包装袋等产品，美观大方，可以多次使用，且聚丙烯可以有效地降解，对环境污染少。但是在聚丙烯无纺布制备过程中，常经过水刺、针刺等步骤，会在无纺布表面留下凹印，容易聚集污染物和细菌，需要提高其抗菌抗污性能。

发明内容

基于背景技术存在的技术问题，本发明提出了一种抗污聚丙烯无纺布及其制备方法，本发明表面能较低，具有良好的机械性能和抗污性能。

本发明提出了一种抗污聚丙烯无纺布，包括基布和粘附在基布表面的抗污层，基布的原料按重量份包括：聚丙烯80-90份、硅烷偶联剂改性二氧化钛10-20份、引发剂0.05-0.1份、相容剂1-2份；抗污层为聚甲基丙烯酸十二氟庚酯层。

优选地，硅烷偶联剂为含不饱和双键的硅烷偶联剂。

上述引发剂可以为过氧化二异丙苯等。

上述含不饱和双键的硅烷偶联剂可以为乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷等。

上述相容剂可以为马来酸酐接枝相容剂等。

本发明还提出了上述抗污聚丙烯无纺布的制备方法，包括如下步骤：

S1、在基布表面涂覆二苯甲酮溶液，浸润，然后紫外光照射，洗涤，干燥得到布料A；

S2、在布料A表面涂覆甲基丙烯酸十二氟庚酯溶液，浸润，然后紫外光照射，洗涤，干燥得到布抗污聚丙烯无纺布。

优选地，在S1中，紫外光照射10-20s。

优选地，在S2中，紫外光照射3-5min。

优选地，浸润时间均≤30s。

优选地，在S1中，二苯甲酮溶液的浓度为20-30mmol/L。

优选地，在S1中，二苯甲酮溶液的溶剂为正庚烷。

优选地，在S2中，甲基丙烯酸十二氟庚酯溶液的含量为8-10wt％。

优选地，在S2中，甲基丙烯酸十二氟庚酯溶液的溶剂为正庚烷。

不规定二苯甲酮溶液、甲基丙烯酸十二氟庚酯溶液的涂覆量，能均匀涂覆并浸润聚丙烯无纺布即可。

有益效果：

本发明先让光引发剂二苯甲酮接枝在聚丙烯无纺布表面，然后再接枝甲基丙烯酸十二氟庚酯，在无纺布表面引入了大量氟元素，使得无纺布表面能大幅降低，抵抗污染物和细菌的粘附，达到很好的抗污抗菌性能；另外接枝二苯甲酮后，进行洗涤可以洗去未接枝的二苯甲酮，避免未接枝的二苯甲酮与甲基丙烯酸十二氟庚酯共聚，影响甲基丙烯酸十二氟庚酯与聚丙烯无纺布接枝的问题；

另外含不饱和双键的硅烷偶联剂改性二氧化钛，与聚丙烯熔融共混制备无纺布的时候，在引发剂作用下，可以接枝到聚丙烯中，可以提高本发明的抗紫外线性能和抗菌性能。

具体实施方式