[发明专利]酸性清洗剂及其制备方法与应用

说明书

本发明涉及一种酸性清洗剂及其制备方法与应用。其中，以质量百分数计，该酸性清洗剂包括：5％～20％有机酸、3％～10％无机酸、5％～30％还原剂、1％～8％pH缓冲剂、1％～8％表面活性剂、1％～5％螯合剂和余量水。采用特定配比的有机酸、无机酸和pH缓冲剂配合，以提供特定的酸性清洗环境，在此酸性环境中，抛光粉表现出强氧化性；同时通过添加特定配比的还原剂，使抛光粉在特定的酸性环境中与还原剂快速发生化学反应，并配合特定配比的螯合剂及表面活性剂的润湿、分散作用，通过各特定配比的组分协调配合，从而能非常迅速处理掉玻璃表面抛光粉，且不对玻璃产生损伤。

技术领域

本发明涉及玻璃清洗领域，特别是涉及一种酸性清洗剂及其制备方法与应用。

背景技术

在玻璃元件的生产过程中，为了使玻璃表面的粗糙度降低，需要对玻璃的表面进行抛光处理。在抛光过程中通常会利用抛光粉对玻璃的表面进行抛光加工，在抛光之后会有一部分抛光粉残留在玻璃表面。一方面，残留在玻璃元件表面的抛光粉微粒会对玻璃元件表面产生腐蚀，例如，精密抛光后的光学玻璃元件上残留的抛光粉微粒是影响元件抗激光辐照损伤能力的关键因素之一；另一方面，当将玻璃元件组装到电子产品上之后，玻璃元件表面残留的抛光粉会严重影响电子产品的稳定性和可靠性，甚至导致电子产品失效。

针对玻璃上残留的抛光粉，传统技术中一般采用以强碱为主的碱性清洗剂或以酸为主的酸性清洗剂；两者均是以酸或碱提供清洗剂所需的pH值体系，并通过其他助剂的配合以达到清洗抛光粉的目的。然而，电子玻璃元件以高铝硅酸盐为主，其主要成分是二氧化硅，传统的碱性清洗剂因碱性太强会导致玻璃被腐蚀，从而出现朦划伤、发蓝等不良现象；而传统的酸性清洗剂通过在酸性体系中添加表面活性剂及分散剂等助剂，以使玻璃表面的抛光粉被清洗，清洗后的玻璃在三波灯检验合格率达到98％以上，但存在抛光粉去除效率低的问题。

因此，如何提供一种抛光粉的清效率高且对玻璃损伤小的清洗剂具有重大意义。

发明内容

基于此，本发明提供了一种能够提高抛光粉的清效率且对玻璃损伤小的酸性清洗剂及其制备方法与应用。

本发明的技术方案如下。

本发明一方面提供了一种酸性清洗剂，以质量百分数计，所述酸性清洗剂的组分包括：5％～20％有机酸、3％～10％无机酸、5％～30％还原剂、1％～8％pH缓冲剂、1％～8％表面活性剂、1％～5％螯合剂和余量水。

在其中一些实施例中，所述还原剂的质量百分数为15％～30％。

在其中一些实施例中，以质量百分数计，所述酸性清洗剂的组分包括： 10％～15％有机酸、3％～5％无机酸、15％～30％还原剂、3％～5％pH缓冲剂、2％～5％表面活性剂、2％～4％螯合剂和余量水。

在其中一些实施例中，所述酸性清洗剂的pH值为0.5～4。

在其中一些实施例中，所述还原剂选自双氧水、硫酸亚铁、硫脲和抗坏血酸中的一种或者几种；和/或，所述有机酸选自柠檬酸、草酸、羟基乙叉二膦酸和2,4-二甲基苯磺酸中的一种或几种。

在其中一些实施例中，所述无机酸选自硫酸、磷酸、硝酸和硼酸中的一种或几种；和/或，所述pH缓冲剂选自柠檬酸钠、葡萄糖酸钠和甘氨酸中的一种或几种。

在其中一些实施例中，所述螯合剂选自柠檬酸钠、乙二胺四乙酸、葡萄糖酸钠和氨三乙酸中的一种或几种。

在其中一些实施例中，所述有机酸选自羟基乙叉二磷酸，所述无机酸选自硫酸，所述pH缓冲剂选自甘氨酸，所述还原剂选自抗坏血酸。

本发明的另一方面还提供上述酸性清洗剂的制备方法，包括以下步骤：

按照所述酸性清洗剂的组分配比，将所述水、所述有机酸、所述无机酸、所述还原剂、所述pH缓冲剂、所述螯合剂和所述表面活性剂混合，得到所述酸性清洗剂。