[发明专利]一种发射端及其制备方法

权利要求书

1.一种发射端，包括：

光源模块，包括可发射高斯光的点光源；以及

扩散板，用于调制所述高斯光以形成匀化光，所述扩散板设置在所述光源模块的发光侧，包括相对的入射面和出射面，

其特征在于，在所述入射面上设置有多个微透镜，所述微透镜具有相对的安装面和入光曲面，其中所述入光曲面的面型函数的二阶导数是高斯函数。

2.根据权利要求1所述的发射端，其特征在于，所述高斯光以固定入射角α射入所述入射面，其中，所述入射角α满足：

0≤α≤15°。

3.根据权利要求2所述的发射端，其特征在于，所述入射角α由所述微透镜在所述入射面的位置确定。

4.根据权利要求1或2所述的发射端，其特征在于，所述入光曲面的表面积大于所述高斯光的光斑的面积。

5.根据权利要求1或2所述的发射端，其特征在于，所述入光曲面的面型函数的二阶导数曲线拟合的确定系数值R-square满足：

R-square≥0.99。

6.根据权利要求5所述的发射端，其特征在于，

所述匀化光在所述匀化光的光路方向上的水平视场角βx满足：

βx≤42°；以及

所述匀化光在所述匀化光的光路方向上的竖直视场角βy满足：

βy≤42°。

7.根据权利要求1所述的发射端，其特征在于，

所述扩散板上任意一个微透镜的入光曲面的面型函数的二阶导数所满足的高斯函数为

以及

其中，x是所述扩散板上任意一个微透镜在所述高斯光的光路水平方向上的坐标；

y是所述扩散板上任意一个微透镜在所述高斯光的光路竖直方向上的坐标。

8.根据权利要求7所述的发射端，其特征在于，

在所述参数B1和所述参数C1恒定的条件下，所述参数A1正比于所述匀化光在所述匀化光的光路方向上的水平视场角βx；以及

在所述参数B2和所述参数C2恒定的条件下，所述参数A2正比于所述匀化光在所述匀化光的光路方向上的竖直视场角βy。

9.根据权利要求7所述的发射端，其特征在于，

在所述参数A1和所述参数B1恒定的条件下，所述参数C1由所述高斯光的所述束腰直径D确定；以及

在所述参数A2和所述参数B2恒定的条件下，所述参数C2由所述高斯光的所述束腰直径D确定。

10.一种制备发射端的方法，其特征在于，包括：

生成包括可发射高斯光的光源模块；以及

在所述光源模块的发光侧设置扩散板，以调制所述高斯光形成匀化光，所述扩散板包括相对的入射面和出射面，

其中，在所述入射面上设置多个微透镜，所述微透镜具有相对的安装面和入光曲面，将所述入光曲面的面型函数的二阶导数设置成高斯函数。