[发明专利]一种具有偏光效应薄膜镀制的方法有效

专利信息
申请号: 202011587080.7 申请日: 2020-12-29
公开(公告)号: CN112746268B 公开(公告)日: 2023-04-25
发明(设计)人: 冯晋阳;雷堃;孙玉娜;赵修建;马晓 申请(专利权)人: 武汉理工大学
主分类号: C23C18/14 分类号: C23C18/14;C01G5/02;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 武汉开元知识产权代理有限公司 42104 代理人: 唐正玉
地址: 430070 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 具有 偏光 效应 薄膜 方法
【权利要求书】:

1.一种具有偏光效应薄膜镀制的方法,其特征在于按照以下步骤进行:首先,采用水热合成制备出纳米卤化银AgX颗粒,然后将纳米卤化银AgX颗粒分散于无机或有机的基础成膜溶液中,通过常规的旋涂、提拉和/或吹制镀膜法在无机或有机的基板表面镀制膜层,镀制后的膜层中含有均匀分散的纳米卤化银AgX颗粒;将镀膜后的无机或有机的基板放置于光栅掩模板下,在梯度电场的辅助作用下进行曝光处理,基板表面膜层中的纳米卤化银AgX颗粒被还原成金属纳米银,最终在基板表层形成沿着光栅定向排布的金属纳米银线栅微结构,所述的卤化银AgX为AgCl、AgI或AgBr;

无机的基础成膜溶液为硅溶胶体系、二氧化钛溶胶体系或硅酸盐溶胶溶液体系;

纳米卤化银AgX颗粒分散于无机或有机的基础成膜溶液中,为保证偏光效应拥有足够高的消光比,纳米卤化银AgX颗粒的加入量为基础成膜液体质量的0.5%~3%,同时采用分散机进行分散,以获得纳米颗粒的高度分散效果;

所述在梯度电场的辅助作用下进行曝光处理具体为:曝光光源波长300nm~400nm,光照时间1-6小时,梯度电场施加方向垂直于基板表面,电场强度沿基板表面镀层指向基板内部呈梯度增加;

基板的金属纳米银线栅之间间隔等于光栅掩模板的间隔,间隔从100nm-2um进行调整,对应的偏振光响应的光波段从可见光-近红外-红外光段变化。

2.根据权利要求1所述的一种具有偏光效应薄膜镀制的方法,其特征在于:所述水热合成制备出纳米卤化银AgX颗粒具体步骤如下:取摩尔比为1:2的硝酸银水溶液和聚二烯丙基二甲基氯化铵水溶液混合,硝酸银水溶液浓度为0.01-0.05mol/L,聚二烯丙基二甲基氯化铵水溶液为0.01-0.05mol/L,搅拌30-60分钟获得Ag+离子悬浮液;取与硝酸银水溶液相同物质的量的卤化钠水溶液,混合溶解于过量葡萄糖水溶液中,获得含卤离子的清液,然后将Ag+离子悬浮液与卤离子清液混合,搅拌100-120分钟,最后将搅拌好的溶液转入高压釜中,160-200℃保温24h,自然冷却后离心洗涤,获得纳米级卤化银AgX颗粒;所述卤化钠为氯化钠、碘化钠或溴化钠。

3.根据权利要求1所述的一种具有偏光效应薄膜镀制的方法,其特征在于:有机的基础成膜溶液为丙烯酸乳液体系、聚氨酯体系或环氧树脂体系。

4.根据权利要求1所述的一种具有偏光效应薄膜镀制的方法,其特征在于:所述基板为玻璃基板或柔性有机材料基板。

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