[发明专利]腔体的净化方法、净化设备和电子束曝光装置

权利要求书

1.一种腔体的净化方法，其特征在于，包括：

将颗粒吸附结构送入真空腔体内；

向所述颗粒吸附结构发射预定电荷，使得所述颗粒吸附结构带上所述预定电荷，所述预定电荷为正电荷和/或负电荷；

在所述颗粒吸附结构带上所述预定电荷预定时间段之后，将所述颗粒吸附结构送出所述真空腔体。

2.根据权利要求1所述的净化方法，其特征在于，所述颗粒吸附结构包括颗粒吸附层。

3.根据权利要求2所述的净化方法，其特征在于，所述颗粒吸附结构还包括载体，所述颗粒吸附层位于所述载体的表面上。

4.根据权利要求3所述的净化方法，其特征在于，所述载体包括玻璃，所述颗粒吸附层包括金属层。

5.根据权利要求4所述的净化方法，其特征在于，所述金属层包括多个间隔设置的金属部。

6.根据权利要求4或5所述的净化方法，其特征在于，所述金属层的材料包括银、铜与铬中的至少一种。

7.根据权利要求1所述的净化方法，其特征在于，所述真空腔体为电子束曝光机台的真空腔体，向所述颗粒吸附结构发射所述预定电荷，使得所述颗粒吸附结构带上所述预定电荷，包括：

控制所述电子束曝光机台的电子发射源发射电子束所述预定时间段，使得所述颗粒吸附结构带上负电荷。

8.根据权利要求1所述的净化方法，其特征在于，将所述颗粒吸附结构送入真空腔体内，包括：

将所述颗粒吸附结构送入真空腔体内且放置在工作台上。

9.根据权利要求1所述的净化方法，其特征在于，在所述颗粒吸附结构带上所述预定电荷预定时间段之后，在将所述颗粒吸附结构送出所述真空腔体之前，所述净化方法包括：

控制工作台在所述真空腔体内移动。

10.一种腔体的净化设备，其特征在于，包括：

第一传输单元，用于将颗粒吸附结构送入真空腔体内；

电荷发射设备，用于向所述颗粒吸附结构发射预定电荷，使得所述颗粒吸附结构带上所述预定电荷，所述预定电荷为正电荷和/或负电荷；

第二传输单元，用于在所述颗粒吸附结构带上所述预定电荷预定时间段之后，将所述颗粒吸附结构送出所述真空腔体。

11.一种电子束曝光装置，包括电子束曝光机台，其特征在于，所述电子束曝光装置还包括：

颗粒吸附结构，用于吸附预定电荷；

腔体的净化设备，用于执行权利要求1至9任一项所述的净化方法。