[发明专利]EBCMOS分辨力参数的测量装置在审

专利信息
申请号: 202011544510.7 申请日: 2020-12-24
公开(公告)号: CN112763189A 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: 赵卫;李永贤;朱香平;韦永林 申请(专利权)人: 松山湖材料实验室
主分类号: G01M11/02 分类号: G01M11/02
代理公司: 深圳市千纳专利代理有限公司 44218 代理人: 何耀煌
地址: 523000 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: ebcmos 分辨力 参数 测量 装置
【权利要求书】:

1.一种EBCMOS分辨力参数的测量装置,其包括光学平台,其特征在于,其还包括光源系统、分辨力靶、物镜、测量暗箱、气体置换装置、TEC温控系统和图像采集及分析系统,所述光源系统、分辨力靶、物镜和测量暗箱依次排列在所述光学平台上,所述光源系统产生照度范围1x10-6lx~1x102lx且不均匀性≤1%的出射光;所述TEC温控系统包括TEC温控台、温度传感器及温度控制面板,所述TEC温控台设置在测量暗箱内,所述温度传感器位于TEC温控台上EBCMOS器件上,所述温度控制面板位于所述测量暗箱的外侧,并分别与所述TEC温控台和温度传感器相连接,所述图像采集及分析系统对EBCMOS器件的输出的数字信号并转化为图像显示并处理分析标靶图像得出分辨力评价结果,所述气体置换装置与所述测量暗箱相连接。

2.根据权利要求1所述的EBCMOS分辨力参数的测量装置,其特征在于,所述光源系统包括光源、电控可变衰减器、第一积分球、孔径光阑转轮、第二积分球和光电检流计,光源发出的光经过电控可变衰减器衰减照度后入射到第一积分球,孔径光阑转轮对第一积分球的出射光照度进行衰减,衰减后的光入射到第二积分球,第二积分球出射不均匀性≤1%的均匀出射光照射到分辨力靶上,所述光电检流计对应第二积分球出射的出射光照度进行监控。

3.根据权利要求2所述的EBCMOS分辨力参数的测量装置,其特征在于,所述光源为色温为2856K的卤钨灯。

4.根据权利要求1所述的EBCMOS分辨力参数的测量装置,其特征在于,所述分辨力靶为USAF1951分辨力测量靶。

5.根据权利要求1所述的EBCMOS分辨力参数的测量装置,其特征在于,所述物镜由两个相同的透镜组成共轭透镜组,所述透镜的通光孔径为58mm、焦距为50mm,最大光圈为F1.4。

6.根据权利要求1所述的EBCMOS分辨力参数的测量装置,其特征在于,所述TEC温控台通过三维调节机构设置在测量暗箱的底面。

7.根据权利要求1所述的EBCMOS分辨力参数的测量装置,其特征在于,所述测量暗箱的前壁带有输入窗口,后壁设置有过线孔,上壁设有气体进口,四周侧壁设有出气口。

8.根据权利要求7所述的EBCMOS分辨力参数的测量装置,其特征在于,所述气体置换装置包括氮气瓶、进气阀和出气阀,该出气阀设置在所述出气口上,所述进气阀设置在所述气体进口上,且通过管路与所述氮气瓶相连接。

9.根据权利要求1-8中任意一项所述的EBCMOS分辨力参数的测量装置,其特征在于,所述TEC温控台的底面设有散热片。

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