[发明专利]涂胶机及其工艺腔

权利要求书

1.一种涂胶机的工艺腔，其特征在于，包括：

腔体，所述腔体的顶部敞开，腔体的底部设有排风机构；

晶圆支座，设置在所述腔体中，晶圆支座被配置为支撑晶圆；

杯罩，罩设在所述腔体的顶部，所述杯罩的顶部敞开；

背面清洗喷嘴，设置在晶圆下方；以及

挡圈，固定于晶圆下方，所述挡圈上半部分呈倒立的圆锥台形，挡圈顶部的端面倾斜向下，端面的外直径大于晶圆的直径，端面与晶圆背面之间存在狭窄间隙，端面与杯罩的内壁之间形成倾斜向下的狭窄通道；

涂胶过程中，背面清洗喷嘴向晶圆背面喷洒清洗液并从狭窄间隙中飞出或流出，排风机构运行，气流从杯罩顶部进入，经过狭窄通道后被排风机构排出。

2.根据权利要求1所述的工艺腔，其特征在于，所述挡圈顶部的端面的内直径小于或等于晶圆的直径。

3.根据权利要求1所述的工艺腔，其特征在于，所述排风机构包括设置在腔体底部的排风口，以及与所述排风口连接的排风通道和排风泵。

4.根据权利要求1所述的工艺腔，其特征在于，所述排风机构设有两个以上。

5.根据权利要求1所述的工艺腔，其特征在于，所述挡圈采用特氟龙材料一体成型制成。

6.根据权利要求1所述的工艺腔，其特征在于，所述挡圈顶部与晶圆背面之间的间隙的高度为0.5mm～10mm。

7.根据权利要求1所述的工艺腔，其特征在于，所述晶圆支座底部连有旋转执行器。

8.根据权利要求7所述的工艺腔，其特征在于，所述腔体底部设有底座，所述晶圆支座位于底座上方，所述旋转执行器通过一旋转轴与晶圆支座连接，所述旋转轴的下半部容纳于底座中。

9.根据权利要求8所述的工艺腔，其特征在于，所述挡圈的底部与所述底座的上表面连接。

10.一种涂胶机，其特征在于，包括如权利要求1至9中任一所述的工艺腔，以及设置在晶圆支座上方的光刻胶喷涂组件。