[发明专利]集成微流道的三维封装结构及封装方法有效
| 申请号: | 202011491883.2 | 申请日: | 2020-12-17 |
| 公开(公告)号: | CN112614785B | 公开(公告)日: | 2023-07-28 |
| 发明(设计)人: | 徐成;曹立强;孙鹏 | 申请(专利权)人: | 上海先方半导体有限公司;华进半导体封装先导技术研发中心有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/48 | 分类号: | H01L21/48;H01L21/56;H01L21/768;H01L23/31;H01L23/367;H01L23/48 |
| 代理公司: | 上海智晟知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31313 | 代理人: | 张东梅 |
| 地址: | 200000 上海市浦东新区自*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 集成 微流道 三维 封装 结构 方法 | ||
本发明提供了一种集成微流道的三维封装结构及封装方法,在芯片上形成多个第一导电体和多个第二导电体;在第一基板上形成多个与第一导电体对应的空腔,以及与多个与第二导电体对应的第三导电体;将芯片布置于第一基板上,以使第一导电体容置于空腔内,且第二导电体与第三导电体电连接;在第一基板上形成第一微流道结构,第一微流道结构被配置为第一导电体散热;在第二基板上形成与第一微流道结构相对应的第二微流道结构、以及多个与第一导电体一一对应的第四导电体;将第二基板布置于第一基板上,以使第一微流道结构与第二微流道结构相通,形成三维垂直结构微流道系统,且第一导电体与第四导电体电连接,使冷却液在三维垂直结构微流道系统中流动。
技术领域
本发明涉及半导体封装技术领域,特别涉及一种集成微流道的三维封装结构及封装方法。
背景技术
随着先进节点的不断开发,芯片的散热成为越来越关键的问题,传统的主动散热装置不能满足大功耗、多芯片散热需求,需要通过更先进的散热技术保障芯片正常工作。其中微流道是其中一项关键技术,其特点是可以继承在芯片封装中,体积小,散热效率高,是具有良好前景的散热方案。
通常微流道在应用时,一般是作为一个散热部件组装在芯片系统中,如组装在芯片背面,或者通过封装互连将芯片组装在微流道上,这两种方式都会使得芯片的发热面,即有源面远离微流道的散热面,同时由于采用的TIM胶或底填胶热导率提升有限,依然会产生较大的热阻,影响整体散热效率。
发明内容
本发明的目的在于提供一种集成微流道的三维封装结构及封装方法,以解决现有的微流道散热效率无法提升的问题。
为解决上述技术问题,本发明提供一种集成微流道的三维封装结构及封装方法,包括:
在芯片上形成多个第一导电体和多个第二导电体;
在第一基板上形成多个与第一导电体一一对应的空腔,以及与多个与第二导电体一一对应的第三导电体;
将芯片布置于第一基板上,以使所述第一导电体容置于所述空腔内,且所述第二导电体与所述第三导电体电连接;
在第一基板上形成第一微流道结构,所述第一微流道结构被配置为所述第一导电体散热;
在第二基板上形成与所述第一微流道结构相对应的第二微流道结构、以及多个与第一导电体一一对应的第四导电体;
将第二基板布置于所述第一基板上,以使所述第一微流道结构与所述第二微流道结构相通,形成三维垂直结构微流道系统,且所述第一导电体与所述第四导电体电连接,使冷却液在所述三维垂直结构微流道系统中流动。
可选的,在所述的集成微流道的三维封装方法中,所述多个第一导电体和多个第二导电体形成在芯片的有源面上,所述芯片与所述第一基板的正面相贴合,所述第二基板与所述第一基板的背面相贴合。
可选的,在所述的集成微流道的三维封装方法中,还包括:
在所述第一基板的正面形成多个与第一导电体和/或第二导电体电连接的第五导电体及第六导电体;
所述第五导电体布置于所述第一基板与芯片的贴合面;
所述第六导电体沿芯片高度方向延伸至高于芯片顶面。
可选的,在所述的集成微流道的三维封装方法中,还包括:将芯片布置于第一基板上之后,在所述第一基板上及芯片的无源面上形成塑封层,所述塑封层包裹所述芯片,并覆盖所述第一基板的正面;
对所述塑封层进行平坦化,以暴露出所述第六导电体;
在所述塑封层上形成第七导电体,所述第七导电体与所述第六导电体电连接。
可选的,在所述的集成微流道的三维封装方法中,在所述塑封层上形成第七导电体包括:
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





