[发明专利]隔挡部件及基板处理装置在审

专利信息
申请号: 202011456572.2 申请日: 2020-12-10
公开(公告)号: CN113013012A 公开(公告)日: 2021-06-22
发明(设计)人: 郑俊泳;佐佐木良 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32;H01L21/67
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 吕琳;朴秀玉
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 部件 处理 装置
【说明书】:

提供一种对隔挡部件的破损进行抑制的隔挡部件及基板处理装置。该隔挡部件包括:内圈部;外圈部,相对于所述内圈部设置在外侧;以及连接部,将所述内圈部与所述外圈部连接,其中,所述连接部具有:圆弧形状的开口,在径向和周向上布置有多个,并且在所述周向上延伸;刚体部,形成于在相同周圈上相邻的所述开口之间;以及壁部,形成于在所述径向上相邻的所述开口之间,并且将一个所述刚体部与另一个所述刚体部连接。

技术领域

本公开涉及一种隔挡部件及基板处理装置。

背景技术

在用于对基板进行蚀刻处理等所需的处理的基板处理装置中设置有用于使气体流通的隔挡部件。

专利文献1公开了一种具备挡板的挡板组件,该挡板具有沿径向排列布置的狭槽。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:(日本)特表2007-525825号公报

发明内容

本发明要解决的问题

在一个方面,本公开提供一种对隔挡部件的破损进行抑制的隔挡部件及基板处理装置。

用于解决问题的手段

为了解决上述问题,根据一个实施方式,提供一种隔挡部件,包括:内圈部;外圈部,相对于所述内圈部设置在外侧;以及连接部,将所述内圈部与所述外圈部连接,其中,所述连接部具有:圆弧形状的开口,在径向和周向上布置有多个,并且在所述周向上延伸;刚体部,形成于在相同周圈上相邻的所述开口之间;以及壁部,形成于在所述径向上相邻的所述开口之间,并且将一个所述刚体部与另一个所述刚体部连接。

发明的效果

根据一个方面,能够提供一种对隔挡部件的破损进行抑制的隔挡部件及基板处理装置。

附图说明

图1是示出根据一个实施方式的基板处理装置的一个示例的剖面示意图。

图2是示出根据一个实施方式的挡板的一个示例的局部放大平面图。

图3是示意性地示出当内圈部与外圈部在高度方向上错开时的根据一个实施方式的挡板的变形的图。

图4是示出壁部的剖面形状和变形方向的剖面图的一个示例。

图5是示出根据第1参考例的挡板的一个示例的局部放大平面图。

图6是示出根据第2参考例的挡板的一个示例的局部放大平面图。

图7是示意性地示出当内圈部与外圈部在高度方向上错开时的根据第2参考例的挡板的变形的图。

具体实施方式

以下,参照附图对本公开的实施方式进行说明。在各附图中,针对相同的构成部分赋予相同的符号,并且有时会省略重复的说明。

基板处理装置

使用图1对根据一个实施方式的基板处理装置1进行说明。图1是示出根据一个实施方式的基板处理装置1的一个示例的剖面示意图。

基板处理装置1包括腔室10。腔室10在其中提供内部空间10s。腔室10包括腔室主体11。腔室主体11具有大致圆筒形的形状。腔室主体11例如由铝形成。在腔室主体11的内壁面上设置有具有耐腐蚀性的膜。该膜可以为氧化铝、氧化钇等陶瓷。

在腔室主体11的侧壁上形成有通路11p。基板W通过通路11p在内部空间10s与腔室10的外部之间被搬送。通路11p由沿着腔室主体11的侧壁设置的闸阀11g打开或关闭。

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