[发明专利]一种修正邻近效应造成曝光图形失真的方法在审
| 申请号: | 202011442268.2 | 申请日: | 2020-12-08 |
| 公开(公告)号: | CN112485975A | 公开(公告)日: | 2021-03-12 |
| 发明(设计)人: | 卫荣汉;赵东阳;姜泽武;许雁雅 | 申请(专利权)人: | 郑州大学 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 450001 河南省郑*** | 国省代码: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 修正 邻近 效应 造成 曝光 图形 失真 方法 | ||
1.一种修正邻近效应造成曝光图形失真的方法,其特征在于,将曝光图形转成像素单元的图形后,将估算得到的邻近效应图形比对原曝光图形得到多馀点与缺少点,利用判别式法及特定修正规则进行修正,反覆多次修正即可得到最佳可改善曝光图形失真的修正图形。
2.一种修正邻近效应造成曝光图形失真的方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤1:将设计于光罩上的曝光图形,将其转换为的像素单元的图形,此图形定义为目标图形,并将曝光的像素单元定义为原曝光点,不曝光的像素单元定义为原非曝光点;
步骤2:将邻近效应的影响转换为对应光源强度的像素图形,即是以光源实际强度简化成从1递减到0的强度数据值表示,并估算出在此光源条件下目标图形实际上会产生的曝光图形,此图形定义为邻近效应图形;
步骤3:将邻近效应图形与目标图形的像素点进行比对,得到与目标图形差异的多余曝光点与缺少曝光点,此简称为多余点与缺少点;
步骤4:依据多余点与缺少点的总点数判别,若缺少点总数较多则进行添加缺少点过程,若多余点总数较多则进行删除多余点过程;
步骤5:再依据缺少点或多余点为修正曝光点或修正非曝光点来决定修正添加规则与修正删除规则,并得到对应的修正图形;
步骤6:将修正图形再次估算出对应的邻近效应图形,并将此邻近效应图形与目标图形进行比对,若差异超过误差范围则再次重复进行步骤3-6,若差异在理想范围内,则利用最终的修正图形进行曝光即可得到避免邻近效应造成失真的目标图形结果。
3.根据权利要求2所述的一种修正邻近效应造成曝光图形失真的方法,其特征在于:所述光源点中心对称式的从1递减到0的强度数据值是依据实际光源的强度情况去简化成一个接近中心对称式的递减数值分布来表示光源分布的数值,其中1代表光强度最强的情况,0代表没有光照射到的情况。
4.根据权利要求2所述的一种修正邻近效应造成曝光图形失真的方法,其特征在于:所述邻近效应图形为将曝光的像素单元与不曝光的像素单元分别转成数值1与0,将各像素点数值去乘以光源分布的数值与其他曝光条件造成的权重值后,将每点得到的数值叠加,并依据定义超过某一临界值的数值即为邻近效应图形的曝光点。
5.根据权利要求2所述的一种修正邻近效应造成曝光图形失真的方法,其特征在于:所述添加缺少点过程是依据缺少点为修正曝光点时,添加缺少点周围一圈的八个点作为此修正添加规则;或依据缺少点为修正非曝光点时,添加此一缺少点位置来作为此修正添加规则。
6.根据权利要求2所述的一种修正邻近效应造成曝光图形失真的方法,其特征在于:所述删除多余点过程是依据多余点为修正曝光点时,删除此一多余点位置来作为此修正删除规则。
7.根据权利要求2所述的一种修正邻近效应造成曝光图形失真的方法,其特征在于:所述删除多余点过程是依据多余点为修正非曝光点时,需再多判别该多余点周围是否有新添加点来作为此修正删除规则。
8.根据权利要求7所述的删除多余点过程,其特征在于:所述当多余点周围有新添加点来作为此修正删除规则时,删除周围部分新添加点对多余点影响大,对缺少点影响小的点。
9.根据权利要求7所述的删除多余点过程,其特征在于:所述当多余点周围无新添加点来作为此修正删除规则时,删除周围部分原曝光点对多余点影响大,对其他原曝光点影响小的点。
10.根据权利要求2所述的一种修正邻近效应造成曝光图形失真的方法,其特征在于:所述修正添加规则与修正删除规则皆可使各个判别点乘以其他影响曝光条件的权重值来更准确定义得到所需添加的缺少点或删除的多余点。
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