[发明专利]用于镀膜机的激光直接光控装置

说明书

本发明公开了一种用于镀膜机的激光直接光控装置，包括光源、信号接收器和工装部件，所述工装部件上设有至少两个成膜基座，所述两个成膜基座设置在以所述工装部件的中心为圆心的圆周上；至少一个所述成膜基座为监控基座，所述监控基座上设有至少一个监控基片；还包括遮挡部件，所述遮挡部件设置在所述监控基座靠近蒸发源的一侧，所述遮挡部件的厚度方向设有通孔，所述遮挡部件和监控基座转动配合，使得所有的所述监控基片均可以通过所述通孔暴露、且每次只有其中一个所述监控基片通过所述通孔暴露。本发明的用于镀膜机的激光直接光控装置，减小膜厚测量的累积公差，提高测量精确度。

技术领域

本发明涉及蒸发镀膜技术领域，具体涉及一种用于镀膜机的激光直接光控装置。

背景技术

蒸发镀膜常称真空镀膜，其特点是在真空条件下，材料蒸发并在玻璃表面上凝结成膜，在玻璃表面形成附着力很强的薄膜，薄膜的光谱特性由薄膜的厚度和折射率决定，实际生产中为了确保薄膜的光谱特性需要在镀膜过程中对每层薄膜的厚度进行精确的在线监测。目前在线监测薄膜厚度的方法主要有晶体振荡和光学控制两种方法，晶体振荡方法属于间接测量方法；光学控制方法属于直接测量方法，具有更高的测量精确度。

蒸发镀膜过程由具有不同折射率的材料依次逐层沉积到基底上构成，比如，第一种折射率的材料在基底上沉积目标厚度（比如100nm）的第一层，第二种折射率的材料在第一层上沉积目标厚度（比如100nm）的第二层，以此类推依次逐层沉积至数百层、甚至上千层。现有技术中的膜厚检测包括由信号接收器采集光信号透过薄膜的光透射率，通过光透射率计算出薄膜的光学厚度，这种方式中，信号接收器采集到的光信号强度会随着膜厚增加而减弱，导致监测精度降低，并且会随着薄膜层数的增加造成测量误差累积。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种用于镀膜机的激光直接光控装置，减小膜厚测量的累积公差，提高测量精确度。

为了解决上述技术问题，本发明提供了一种用于镀膜机的激光直接光控装置，包括工装部件，所述工装部件上设有至少两个成膜基座，所述两个成膜基座设置在以所述工装部件的中心为圆心的圆周上；至少一个所述成膜基座为监控基座，所述监控基座上设有至少一个监控基片；

还包括遮挡部件，所述遮挡部件设置在所述监控基座靠近蒸发源的一侧，所述遮挡部件的厚度方向设有通孔，所述遮挡部件和监控基座转动配合，使得所有的所述监控基片均可以通过所述通孔暴露、且每次只有其中一个所述监控基片通过所述通孔暴露。

本发明一个较佳实施例中，进一步包括所述遮挡部件固定在所述监控基座靠近蒸发源的一侧，所述监控基座绕自己的中心转动。

本发明一个较佳实施例中，进一步包括所述监控基座固定在所述工装部件上，所述遮挡部件绕自己的中心转动。

本发明一个较佳实施例中，进一步包括还包括光源和信号接收器，所述光源和信号接收器分别设置在所述监控基座的相对两侧，所述信号接收器所含透镜的光轴与所述监控基座相垂直，所述光源位于所述信号接收器所含透镜的光轴上，且所述光源的光信号能够透过所述通孔投射至所述监控基片上。

本发明一个较佳实施例中，进一步包括所述光源为激光光源。

本发明一个较佳实施例中，进一步包括所述工装部件绕自己的中心转动。

本发明一个较佳实施例中，进一步包括所述工装部件的转动速度能够调节。

本发明一个较佳实施例中，进一步包括所述工装部件上设有六个所述成膜基座，所述六个成膜基座设置在以所述工装部件的中心为圆心的圆周上。

本发明一个较佳实施例中，进一步包括所述监控基座上设有六个所述监控基片，所述六个监控基片设置在以所述监控基座的中心为圆心的圆周上。

本发明一个较佳实施例中，进一步包括还包括辅正板，所述辅正板用于遮挡部分蒸发源。