[发明专利]电镀液循环装置和电镀液过滤方法

权利要求书

1.一电镀液循环装置，适用于输送一电镀液，其特征在于，所述电镀液循环装置包括：

一储液装置，其中所述储液装置具有一储液空间和被连通于所述储液空间的一储液出口和一储液进口；

一工作槽，其中所述工作槽具有一工作空间和被连通于所述工作空间的一进液口和一出液口；

至少一第一过滤装置，其中所述第一过滤装置被连通于所述储液装置的所述储液出口和所述工作槽的所述进液口；以及

至少一第二过滤装置，其中所述第二过滤装置被连通于所述储液装置的所述储液进口和所述工作槽的所述出液口。

2.根据权利要求1所述的电镀液循环装置，其中所述工作槽具有一溢流口，其中所述溢流口被连通于所述工作槽的工作空间，藉由所述溢流口界定一标准液位。

3.根据权利要求2所述的电镀液循环装置，进一步包括一过渡槽，其中所述过渡槽具有一容液空间、一过渡入口和一过渡出口，其中所述过渡入口和所述过渡出口被连通于所述容液空间，所述工作槽的所述溢流口被连通于所述过渡槽的所述溢流口。

4.根据权利要求3所述的电镀液循环装置，进一步包括一液位探测装置，其中所述液位探测装置被设置于所述过渡槽的所述容液空间，所述液位探测装置被可通信地连接于所述第二过滤装置。

5.根据权利要求4所述的电镀液循环装置，进一步包括一净化装置，其中所述储液装置具有一净化出口和一净化入口，其中所述净化出口和所述净化入口被连通于所述储液装置的所述储液空间，其中所述净化装置被连通于所述储液装置的所述净化出口和所述净化入口。

6.根据权利要求5所述的电镀液循环装置，其中所述净化出口被设置于所述净化装置的上部，所述净化装置将所述储液装置的所述储液空间内的所述电镀液自下而上地抽出。

7.根据权利要求5所述的电镀液循环装置，其中所述净化出口被设置于所述净化装置的底部。

8.根据权利要求5所述的电镀液循环装置，其中所述净化入口被设置于所述净化装置的上部或底部。

9.根据权利要求5所述的电镀液循环装置，其中所述第一过滤装置、所述第二过滤装置以及所述净化装置被实施为一过滤机。

10.根据权利要求4所述的电镀液循环装置，其中所述液位探测装置被实施为一液位计或一传感器。

11.一电镀液过滤方法，其特征在于，所述电镀液过滤方法包括如下步骤：

(a)藉由至少一第一过滤装置对自一储液装置流入一工作槽的一工作空间内的一电镀液进行过滤；和

(b)藉由至少一第二过滤装置对自所述工作空间流至所述储液装置的一储液空间内的所述电镀液进行过滤。

12.根据权利要求11所述的电镀液过滤方法，其中在所述步骤(b)中，保持所述工作槽的所述工作空间内的所述电镀液处于一标准液位。

13.根据权利要求12所述的电镀液过滤方法，其中在上述方法中，所述工作空间内的所述电镀液到达所述工作槽的一溢流口后，自所述溢流口溢至一过渡槽的一容液空间。

14.根据权利要求13所述的电镀液过滤方法，其中在上述方法中，藉由一液位探测装置探测所述过渡槽的所述容液空间内的所述电镀液的液位，且所述液位探测装置根据探测结果控制所述第二过滤装置将所述过滤槽的所述容液空间内的所述电镀液输送至所述储液装置的所述储液空间。

15.根据权利要求14所述的电镀液过滤方法，其中在上述方法中，所述液位探测装置在探测到所述电镀液到达所述预设液位后，所述液位探测装置控制所述第二过滤装置将所述过渡槽的所述容液空间内的所述电镀液泵入所述储液装置的所述储液空间。