[发明专利]一种ICP等离子体刻蚀机

权利要求书

1.一种ICP等离子体刻蚀机，包括机体(1)，其特征在于：所述机体(1)的上表面固定安装有连通管(2)，所述连通管(2)的两侧固定安装有进气口(3)，所述机体(1)、连通管(2)、进气口(3)相连通，所述机体(1)的顶端固定安装有铁芯(4)，所述铁芯(4)的外部固定套接有导线(20)，所述机体(1)内部的上部固定套接有屏蔽管(5)，所述屏蔽管(5)的外部固定套接有耦合线圈(6)，所述耦合线圈(6)与ICP电源电连接，所述导线(20)与耦合线圈(6)串联，所述机体(1)内部的底部固定安装有散热管(11)，所述散热管(11)外部的上端活动套接有基片底座(13)，所述基片底座(13)的下表面固定安装有活动套接在散热管(11)外部的弹簧(12)，所述弹簧(12)的另一端与机体(1)的底部固定连接，所述基片底座(13)顶端的内部固定安装有磁极一(19)，所述基片底座(13)与下电极射频源电连接，所述基片底座(13)上表面的两侧螺栓连接有压盘(14)，所述基片底座(13)的上表面活动连接有位于磁极一(19)上方的基片(15)，所述基片(15)被压盘(14)夹紧，所述机体(1)内部的正背面开设有滑槽(18)，所述基片底座(13)顶端的正背面设有与滑槽(18)相适配的凸槽。

2.根据权利要求1所述的一种ICP等离子体刻蚀机，其特征在于：所述机体(1)内部中部的两侧固定安装有真空管(7)，所述真空管(7)靠近基片底座(13)的一侧活动连接有吸气口挡板(8)，所述真空管(7)靠近基片底座(13)的一侧开设有吸气口(9)，所述吸气口挡板(8)的底端固定安装有齿条(10)，所述基片底座(13)的外部活动套接有齿轮(16)，所述齿轮(16)的轮齿与齿条(10)相适配，所述机体(1)内部正背面之间固定安装有位于齿轮(16)上方的挡板(17)，所述基片底座(13)的外部与齿轮(16)的内圈均开设有螺旋槽，所述两者螺旋槽相适配，所述基片底座(13)向上移动时齿轮(16)发生转动。

3.根据权利要求1所述的一种ICP等离子体刻蚀机，其特征在于：所述耦合线圈(6)与导线(20)串联，使得耦合线圈(6)上电流增加时，所述导线(20)上的电流增加。

4.根据权利要求1所述的一种ICP等离子体刻蚀机，其特征在于：所述铁芯(4)上由于导线(20)流经电流后产生与磁极一(19)相反的磁场，所述铁芯(4)的下表面与磁极一(19)上表面面积一致，所述导线(20)与磁极一(19)之间产生的磁感线与上下表面垂直。

5.根据权利要求1所述的一种ICP等离子体刻蚀机，其特征在于：所述基片底座(13)为轻质材料制成，所述基片底座(13)在原始状态下，所述弹簧(12)未被全部压缩，即弹簧(12)被全部压缩后，其弹簧弹力大于基片底座(13)重力。

6.根据权利要求2所述的一种ICP等离子体刻蚀机，其特征在于：所述吸气口(9)在真空管(7)上的位置，位于靠近机体(1)内腔一侧的半侧，所述吸气口挡板(8)转动后，吸气口(9)的面积渐渐增加，两侧所述吸气口(9)位置相反。

7.根据权利要求2所述的一种ICP等离子体刻蚀机，其特征在于：所述齿条(10)与齿轮(16)位于同一水平线上，所述挡板(17)与齿轮(16)上表面距离极近，所述吸气口(9)位于挡板(17)上方。