[发明专利]一种超材料宽带宽角扫描阻抗匹配层在审
申请号: | 202011296531.1 | 申请日: | 2020-11-18 |
公开(公告)号: | CN112490680A | 公开(公告)日: | 2021-03-12 |
发明(设计)人: | 陈玉山;李祥祥;宋世千 | 申请(专利权)人: | 扬州船用电子仪器研究所(中国船舶重工集团公司第七二三研究所) |
主分类号: | H01Q15/00 | 分类号: | H01Q15/00;H01Q21/00 |
代理公司: | 南京理工大学专利中心 32203 | 代理人: | 薛云燕 |
地址: | 225001 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 材料 宽带 扫描 阻抗匹配 | ||
1.一种超材料宽带宽角扫描阻抗匹配层,其特征在于,包括上层介质基片(1)、印制图形(2)、半固化片(3)、和下层介质基片(4),其中上层介质基片(1)采用亚波长印刷周期超材料结构;所述印制图形(2)通过PCB工艺刻蚀于上层介质基片(1)底部,所述上层介质基片(1)和下层介质基片(4)通过半固化片(3)进行粘接。
2.根据权利要求1所述的超材料宽带宽角扫描阻抗匹配层,其特征在于,采用基于Kramers-Kronig关系的反演算法,提取超材料的等效本构参数,包括介电常数、磁导率和折射率,根据所提取的参数构建超材料宽带宽角扫描阻抗匹配层。
3.根据权利要求1所述的超材料宽带宽角扫描阻抗匹配层,其特征在于,该超材料宽带宽角扫描阻抗匹配层与紧耦合天线共面设计。
4.根据权利要求1所述的超材料宽带宽角扫描阻抗匹配层,其特征在于,通过调节印制图形(2)外围轮廓的长度、宽度及间隙,得到不同的工作带宽和扫描角度。
5.根据权利要求2所述的超材料宽带宽角扫描阻抗匹配层,其特征在于,所述基于Kramers-Kronig关系的反演算法,具体如下:
根据反射系数S11,透射系数S21唯一确定特征阻抗z,由于复折射率多值性只针对折射率n的实部,所以根据K-K关系由n的虚部来确定实部,n的实部的取值为最接近由K-K关系所确定的实部对应的分支。
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