[发明专利]一种亚微米级掺杂氧化钨基粉体及制备方法和应用

权利要求书

1.一种亚微米级掺杂氧化钨基粉体，其特征在于：为包含氧化钨和掺杂源的混合粉体，所述混合粉体中掺杂源元素的总质量分数为5-50％，所述掺杂源的掺杂元素选自Ti、Mo、V、Al、Li、Zr中的至少三种，所述混合粉体的纯度大于99.95％，平均粒径500nm-1800nm，D50粒径在200-750nm；定义M₁为50-100nm粒度段粉体颗粒质量分数，M₂为100-400nm粒度段粉体颗粒质量分数，M₃为400-700nm粒度段粉体颗粒质量分数，M₄为700nm-1μm粒度段粉体颗粒质量分数，M₅为＞1μm粒度段粉体颗粒质量分数，那么M₁、M₂、M₃、M₄、M₅的数量关系符合公式：。

2.根据权利要求1所述的亚微米级掺杂氧化钨基粉体，其特征在于：所述混合粉体中掺杂源元素的总质量分数为10-40％。

3.根据权利要求1所述的亚微米级掺杂氧化钨基粉体，其特征在于：所述Ti元素的质量分数范围是0-15％，所述Mo元素的质量分数范围是0-15％，所述V元素的质量分数范围是0-10％，所述Al元素的质量分数范围是0-2％，所述Li元素的质量分数范围是0-2％，所述Zr元素的质量分数范围是0-2％。

4.根据权利要求3所述的亚微米级掺杂氧化钨基粉体，其特征在于：所述Ti元素的质量分数范围是1-12％，所述Mo元素的质量分数范围是1-12％，所述V元素的质量分数范围是0.5-10％，所述Al元素的质量分数范围是0.1-2％，所述Li元素的质量分数范围是0.1-2％，所述Zr元素的质量分数范围是0.1-2％。

5.根据权利要求1所述的亚微米级掺杂氧化钨基粉体，其特征在于：所述掺杂源组分配比选用下列几组中的其中一组：

第一组：所述掺杂源元素选用Mo、Li、Zr，质量分数范围为Mo 5-10％，Li 0.1-1.5％，Zr0.2-2％；

第二组：所述掺杂源元素选用Ti、Mo、Zr，质量分数范围为Ti 5-10％，Mo 5-10％，Zr0.3-2％；

第三组：所述掺杂源元素选用Li、Al、Zr，质量分数范围为Li 1-2％，Al 0.1-1％，Zr0.3-2％；

第四组：所述掺杂源元素选用Mo、V、Al，质量分数范围为Mo 5-10％，V 1-10％，Al 0.1-0.8％；

第五组：所述掺杂源元素选用Ti、V、Zr、Al，质量分数范围为Ti 5-10％，V 1-10％，Zr0.2-2％，Al 0.2-0.8％；

第六组：所述掺杂源元素选用Mo、Ti、V、Zr，质量分数范围为Mo 5-10％，Ti 5-10％，V3-6％，Zr 0.5-2％；

第七组：所述掺杂源元素选用Mo、Li、Ti、Al、Zr，质量分数范围为Mo 5-10％，Li 1-2％，Ti 5-10％，Al 0.2-0.8％，Zr 0.5-2％。

6.根据权利要求1所述的亚微米级掺杂氧化钨基粉体，其特征在于：所述掺杂源组分按照摩尔比选用下列几组中的其中一组：

第一组：Mo：Li：Zr＝(0-10):(0-15):(0-2)；

第二组：Ti：Mo：Zr＝(0-15):(0-10):(0-2)；

第三组：Li：Al：Zr＝(0-15):(0-2):(0-2)；

第四组：Mo：V：Al＝(0-10):(0-10):(0-2)；

第五组：Ti：V：Zr：Al＝(0-15):(0-10):(0-2):(0-2)；

第六组：Mo：Ti：V：Zr＝(0-10):(0-15):(0-10):(0-2)；

第七组：Mo：Li：Ti：Al：Zr＝(0-10):(0-10):(0-15):(0-2):(0-2)。