[发明专利]一种提高半导体激光器微小角度测量系统精度的方法有效

专利信息
申请号: 202011259054.1 申请日: 2020-11-12
公开(公告)号: CN112444213B 公开(公告)日: 2021-09-24
发明(设计)人: 蔡引娣;谢波;高英豪;范光照 申请(专利权)人: 大连理工大学
主分类号: G01B11/26 分类号: G01B11/26
代理公司: 大连理工大学专利中心 21200 代理人: 陈玲玉
地址: 116024 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 一种 提高 半导体激光器 微小 角度 测量 系统 精度 方法
【权利要求书】:

1.一种提高半导体激光器微小角度测量系统精度的方法,其特征在于,包括如下步骤:

第一步,采用离焦的方式对椭圆光斑进行整形;

激光器出射光线经过聚焦透镜汇聚在焦平面处四象限光电探测器上,光斑在X和Y方向上的光斑直径分别为:

其中,λ表示半导体激光器激光波长,f表示聚焦透镜的焦距,半导体激光器出射光在X和Y方向上的光斑直径Dx和Dy

当四象限光电探测器偏离焦平面处,此时四象限光电探测器上光斑在X和Y方向上的直径dΔz_x和dΔz_y为:

公式(22)(23)中,Δz为离焦量,表示四象限光电探测器偏离聚焦透镜焦平面的距离;

联立(22)和(23),使dΔz_x等于dΔz_y,得到离焦量Δz,即当四象限光电探测器与聚焦透镜之间的距离为f+Δz时,半导体激光器的光斑在四象限光电探测器上为圆形光斑;

第二步,对离焦量误差进行补偿;

通过离焦的方式对四象限光电探测器上的椭圆光斑进行修正后,四象限光电探测器置于聚焦透镜的焦平面,此时产生测量误差,根据几何关系有:

公式(24)中Δ2表示离焦量误差,L表示激光出射位置到聚焦透镜的距离,f表示聚焦透镜焦距,α为被测物体的偏转角度,Δz为离焦量,δ’为当四象限光电探测器偏离聚焦透镜焦平面Δz时,整形后的圆形光斑偏离四象限光电探测器中心的距离;

补偿离焦量误差后微小角度测量的结果最终表示为:

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