[发明专利]一种化学液处理回收装置在审
申请号: | 202011248895.2 | 申请日: | 2020-11-10 |
公开(公告)号: | CN112495028A | 公开(公告)日: | 2021-03-16 |
发明(设计)人: | 徐权锋 | 申请(专利权)人: | 芯米(厦门)半导体设备有限公司 |
主分类号: | B01D29/50 | 分类号: | B01D29/50;B01D29/03;B01D29/01;B01D29/56 |
代理公司: | 厦门仕诚联合知识产权代理事务所(普通合伙) 35227 | 代理人: | 吴圳添 |
地址: | 361000 福建省厦门市火炬*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 化学 处理 回收 装置 | ||
一种化学液处理回收装置,包括预处理罐、进液装置、导管、泵体、第一输送管、第一容器、第二容器、第一滤网、回收池、罐盖、连接件、卡块和导流板,所述预处理罐顶端设置有进液装置,预处理罐右侧设置有导管,所述导管上设置有泵体,导管一端与预处理器相通,另一端设置有三通管,所述三通管一端设置有第一输送管,所述第一输送管上设置有第一止回阀,所述三通管另一端设置有第二输送管,第二输送管与第二容器相通,本发明的化学液处理回收装置,可以通过不同的处理容器对化学液进行回收处理,并且在整个处理过程中,化学液均处于密封状态的情况下进行回收,很大程度上减少了化学液的污染和被稀释问。
技术领域
本发明涉及化学液回收装置技术领域,具体为一种化学液处理回收装置。
背景技术
目前,对于半导体行业中晶片湿法处理工艺经常需要使用化学液,而如何实现化学液的无污染无稀释回收再利用就是一个不可避免的问题。在现有技术中,化学液的回收比较困难,并且回收的化学液会被污染和稀释。
例如公开号为“CN201110332579.8”专利名称为:“一种化学液回收装置”的专利,其公开了“包括固定及旋转晶片的承片台、CUP、接液槽、气缸、电机及台面板,其中接液槽安装在台面板上,在接液槽内设有由电机驱动的承片台;所述接液槽与承片台之间设有由气缸驱动升降的CUP,接液槽内通过所述CUP分成回收化学液的外槽及回收清洗液的内槽,每个槽各设有一个排出口。所述CUP移动的上限位位于晶片及承片台的上方,下限位位于晶片及承片台的下方;所述电机为中空轴电机,安装在台面板的下方,电机中空的输出轴穿过台面板与所述承片台相连,在电机中空的输出轴端设有压缩空气入口,所述承片台套在输出轴外的部位开有与所述中空的输出轴连通的压缩空气出口;所述CUP为锥台形、内部中空,在CUP的上表面开有供所述承片台穿过的第一通孔;所述CUP上开有凹槽,接液槽内设有第二凸起,该第二凸起容置在所述凹槽内;所述气缸安装在台面板的下表面,活塞杆依次穿过台面板、第二凸起与CUP相连;所述接液槽内由里向外依次设有内部中空的第一凸起、第二凸起,承片台及电机的输出轴由第一凸起穿过;所述第一凸起及第二凸起将接液槽内部分隔成外槽及内槽,第一、二凸起之间为内槽,第二凸起与接液槽外壁之间为外槽,内槽的底部开有回收清洗液的排液口,外槽的底部开有回收化学液的排酸口;所述内槽内,在第一凸起顶端与承片台之间设有挡板;所述接液槽的顶部安装有防护罩;所述防护罩为锥台形,其上表面开有第二通孔”。
但是现有的化学液处理回收装置,在使用时如何避免化学液在回收过程中被污染和稀释现象的产生,已成为亟待解决的问题。
发明内容
(一)解决的技术问题
针对现有技术的不足,本发明提供了一种实用性强、结构简单的化学液处理回收装置。
(二)技术方案
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:
一种化学液处理回收装置,包括预处理罐、进液装置、导管、泵体、第一输送管、第一容器、第二容器、第一滤网、回收池、罐盖、连接件、卡块、导流板、阀门、液位传感器和警示灯,所述预处理罐顶端设置有进液装置,预处理罐右侧设置有导管,所述导管上设置有泵体,导管一端与预处理罐相通,另一端设置有三通管,所述三通管一端设置有第一输送管,第一输送管与第一容器相通,所述第一输送管上设置有第一止回阀,所述三通管另一端设置有第二输送管,第二输送管上设置有第二止回阀,第二输送管与第二容器相通,所述第一容器内壁两侧设置有卡槽,第一容器内部设置有第一滤网,第一容器底端设置有导流板,所述第二容器内部设置有第二滤网,所述第一容器顶端设置有罐盖,所述罐盖一侧设置有连接件,第一容器顶端设置有密封垫,所述第一容器底端设置有第一管路,所述第二容器底端设置有第二管路。
为了实现更好的回收,本发明改进有,所述第一容器与第二容器内部结构均设置为一样。
为了实现更好的拆卸,本发明进有,所述第一滤网底端两侧设置有卡块,所述卡块设置在卡槽内部,卡块与卡槽可活动连接。
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