[发明专利]显示基板的制备方法和显示面板的制备方法

说明书

本申请公开了一种显示基板的制备方法和显示面板的制备方法。本申请实施例的显示基板的制备方法包括：提供涂布机，涂布机包括模具和调节构件，所述模具具有狭缝且内部容纳有第一衬底材料，所述调节构件设置为能够改变所述狭缝的开口的大小；提供基底，驱动所述基底和所述模具相对移动以使所述基底经过所述狭缝，所述基底包括第一区域和第二区域，当所述第一区域经过所述狭缝时，所述第一衬底材料经由所述狭缝涂覆到所述第一区域并形成第一衬底层，当所述第二区域经过所述狭缝时，所述调节构件遮挡所述狭缝的与所述第二区域对应的部分；在所述第二区域上设置第二衬底材料以形成第二衬底层，所述第二衬底层的透光率大于所述第一衬底层的透光率。

技术领域

本申请涉及显示领域，具体涉及一种显示基板的制备方法和显示面板的制备方法。

背景技术

近年来，全面屏技术兴起。全面屏的显示装置看上去更有科技感，并且同样机身正面的面积可以容纳更大的屏幕，对于视觉体验有着显著的提升。因此，其受到各大厂商的重视。

同时，全面屏的显示装置(例如手机等)上通常还需要设有摄像头等光敏元件。为了保证光敏元件可以进行正常工作，需要有足够得光线进入光敏元件。

显示装置包括显示面板。显示面板通常是在显示基板的基础之上加工而成，如何使显示基板适应光敏元件对光线的需求，是目前急需解决的问题。

申请内容

本申请实施例提供一种显示基板的制备方法和显示面板的制备方法，其能适应光敏元件对光线的需求，提高产品的良率。

本申请实施例提供一种显示基板的制备方法，其包括：提供涂布机，所述涂布机包括模具和调节构件，所述模具具有狭缝且内部容纳有第一衬底材料，所述调节构件设置为能够改变所述狭缝的开口的大小；提供基底，驱动所述基底和所述模具相对移动以使所述基底经过所述狭缝，所述基底包括第一区域和第二区域，当所述第一区域经过所述狭缝时，所述第一衬底材料经由所述狭缝涂覆到所述第一区域并形成第一衬底层，当所述第二区域经过所述狭缝时，所述调节构件遮挡所述狭缝的与所述第二区域对应的部分；在所述第二区域上设置第二衬底材料以形成第二衬底层，所述第二衬底层的透光率大于所述第一衬底层的透光率。

根据本申请实施例的一个方面，所述提供涂布机，所述涂布机包括模具和调节构件，所述模具具有狭缝且内部容纳有第一衬底材料，所述调节构件设置为能够改变所述狭缝的开口的大小的步骤中，所述调节构件可滑动地连接于所述模具。

根据本申请实施例的一个方面，所述提供涂布机，所述涂布机包括模具和调节构件，所述模具具有狭缝且内部容纳有第一衬底材料，所述调节构件设置为能够改变所述狭缝的开口的大小的步骤中，所述调节构件包括遮挡部和从所述遮挡部延伸的连接部，所述连接部可滑动地连接于所述模具。在所述当所述第二区域经过所述狭缝时，所述调节构件遮挡所述狭缝的与所述第二区域对应的部分的步骤中，所述遮挡部遮挡所述狭缝的与所述第二区域对应的部分。可选地，所述遮挡部为矩形、半圆形或三角形。

根据本申请实施例的一个方面，所述提供涂布机，所述涂布机包括模具和调节构件，所述模具具有狭缝且内部容纳有第一衬底材料，所述调节构件设置为能够改变所述狭缝的开口的大小的步骤中，所述涂布机还包括自动控制模块，所述自动控制模块连接于所述连接部且用于驱动所述连接部。

根据本申请实施例的一个方面，所述提供基底，驱动所述基底和所述模具相对移动以使所述基底经过所述狭缝的步骤中，沿所述狭缝的延伸方向，所述狭缝的尺寸小于或等于所述基底的尺寸。

根据本申请实施例的一个方面，所述在所述第二区域上设置第二衬底材料以形成第二衬底层的步骤中，所述第二衬底材料通过涂布或喷墨成像打印技术设置到所述第二区域上。