[发明专利]基于高反光栅泄漏光测量单模光纤振荡器模式不稳定阈值的方法及装置

权利要求书

1.一种基于高反光栅泄漏光测量单模光纤振荡器模式不稳定阈值的方法，其特征在于，所述方法包括增加光纤振荡器(2)的泵浦功率，所述光纤振荡器(2)为单模光纤振荡器，所述光纤振荡器(2)中设有高反射率光纤光栅(26)，同时记录所述光纤振荡器(2)的输出激光功率和高反光栅泄漏光功率，当所述高反光栅泄漏光功率随所述泵浦功率的增加而下降时，则判断所述光纤振荡器(2)出现了模式不稳定现象，所述高反光栅泄漏光功率由上升至下降的拐点处对应的输出激光功率即为所述光纤振荡器(2)的模式不稳定阈值。

2.一种基于高反光栅泄漏光测量单模光纤振荡器模式不稳定阈值的装置，其特征在于，包括用于记录光纤振荡器(2)的高反光栅泄漏光功率的第一激光功率计(1)、光纤振荡器(2)和用于记录光纤振荡器(2)的输出激光功率的第二激光功率计(3)，所述光纤振荡器(2)为单模光纤振荡器，所述光纤振荡器(2)中设有高反射率光纤光栅(26)。

3.根据权利要求2所述的基于高反光栅泄漏光测量单模光纤振荡器模式不稳定阈值的装置，其特征在于，所述光纤振荡器(2)为前向泵浦光纤振荡器、后向泵浦光纤振荡器或双向泵浦光纤振荡器。

4.根据权利要求3所述的基于高反光栅泄漏光测量单模光纤振荡器模式不稳定阈值的装置，其特征在于，所述前向泵浦光纤振荡器包括前向半导体激光器(24)和依次熔接的回光输出光纤(21)、前向包层功率剥除器(23)、前向光纤泵浦信号合束器(25)、高反射率光纤光栅(26)、掺镱有源光纤(27)、低反射率光纤光栅(28)、后向包层功率剥除器(29)和QBH输出光纤(22)，所述前向半导体激光器(24)的输出光纤与所述前向光纤泵浦信号合束器(25)的泵浦光纤熔接。

5.根据权利要求4所述的基于高反光栅泄漏光测量单模光纤振荡器模式不稳定阈值的装置，其特征在于，所述回光输出光纤(21)、所述前向包层功率剥除器(23)的输入光纤和输出光纤、所述前向光纤泵浦信号合束器(25)的信号光纤和输出光纤、所述高反射率光纤光栅(26)、所述掺镱有源光纤(27)、所述低反射率光纤光栅(28)、后向光纤泵浦信号合束器的信号光纤和输出光纤、所述后向包层功率剥除器(29)的输入光纤和输出光纤和所述QBH输出光纤均为双包层光纤，各双包层光纤的纤芯直径相等、各双包层光纤的纤芯数值孔径相等、各双包层光纤的内包层直径相等、各双包层光纤的内包层数值孔径相等，各双包层光纤中，所述纤芯直径在10μm～30μm之间，所述纤芯数值孔径在0.06～0.075之间，所述内包层直径在125μm～400μm之间，所述内包层数值孔径在0.44～0.46之间；

所述前向半导体激光器(24)的输出光纤和所述前向光纤泵浦信号合束器(25)的泵浦光纤均为单包层光纤，各单包层光纤的纤芯直径相等、各单包层光纤的纤芯数值孔径相等，各单包层光纤中，所述纤芯直径在100μm～220μm之间，所述纤芯数值孔径在0.18～0.22之间。

6.根据权利要求4所述的基于高反光栅泄漏光测量单模光纤振荡器模式不稳定阈值的装置，其特征在于，所述后向泵浦光纤振荡器包括后向半导体激光器和依次熔接的回光输出光纤(21)、前向包层功率剥除器(23)、高反射率光纤光栅(26)、掺镱有源光纤(27)、低反射率光纤光栅(28)、后向光纤泵浦信号合束器、后向包层功率剥除器(29)和QBH输出光纤(22)，所述后向半导体激光器的输出光纤与所述后向光纤泵浦信号合束器的泵浦光纤熔接。