[发明专利]监视系统

说明书

本发明提供监视用壳体将基片处理装置密闭、将上述密闭的空间用规定的气体气氛充满的密闭装置的监视系统，其包括：将上述壳体与上述基片处理装置之间的空间中的、人能够进入的区域作为检测区域的激光传感器；和控制装置，其基于上述激光传感器的检测结果对上述基片处理装置或上述密闭装置输出控制信号，或者输出基于上述检测结果的通知信号。本发明用壳体将基片处理装置密闭，来提高用规定的气体气氛充满密闭的空间的密闭装置的安全性。

技术领域

本发明涉及一种监视系统。

背景技术

专利文献1中记载了一种腔室装置，其在腔室空间内收纳需要在非活性气体的气氛中进行工件处理的工件处理装置，该腔室装置包括：形成为大致长方体形状的上述腔室空间；对上述腔室空间内供给非活性气体的气体供给流路；与上述气体供给流路相连并且在述腔室空间开口的送气口；将上述腔室空间内的非活性气体排出的排气流路；和与上述排气流路相连并且在上述腔室空间开口的排气口，上述送气口和上述排气口配置于彼此大致对角的位置。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2007-88485号公报

发明内容

发明要解决的技术问题

本发明的技术，将基片处理装置用壳体密闭，来提高将上述密闭的空间用规定的气体气氛充满的密闭装置的安全性。

用于解决技术问题的技术方案

本发明的一方式是监视用壳体将基片处理装置密闭、将上述密闭的空间用规定的气体气氛充满的密闭装置的监视系统，其包括：将上述壳体与上述基片处理装置之间的空间中的、人能够进入的区域作为检测区域的激光传感器；和控制装置，其基于上述激光传感器的检测结果对上述基片处理装置或上述密闭装置输出控制信号，或者输出基于上述检测结果的通知信号。

发明效果

依照本发明，能够将基片处理装置用壳体密闭，来提高将上述密闭的空间用规定的气体气氛充满的密闭装置的安全性。

附图说明

图1是示意地表示实施方式的监视系统的概要结构的平面的说明图。

图2是示意地表示实施方式的监视系统的概要结构的侧面的说明图。

图3是实施方式的监视系统中的退出时的流程图。

图4是实施方式的监视系统中的进入时的流程图。

图5是表示应用于其他基片处理装置的监视系统的概要结构的立体图。

附图标记说明

1、61 监视系统

2、63 壳体

10 涂敷显影处理装置

31 门

31a 上锁机构

32 显示部

41、42、43、71、72、73、74 激光传感器

41a、42a、43a 拍摄装置

51 气体供给部

52 空气供给部

53 排气部

100 控制装置。

具体实施方式