[发明专利]标志结构

权利要求书

1.一种标志结构，包括：

基层；

图像层，设置在所述基层的外表面上或者与所述外表面间隔开；以及

透明层，沉积在所述基层上以覆盖所述图像层，所述透明层被配置成透射光并产生光的折射，并且使得由所述基层和所述图像层反射的光消失，从而改善所述图像层的视觉识别性。

2.根据权利要求1所述的标志结构，其中：

所述图像层包括金属膜，所述金属膜的透光率低于所述透明层的透光率。

3.根据权利要求1所述的标志结构，其中：

所述图像层包括沿所述图像层的外周面的细微突起。

4.根据权利要求1所述的标志结构，其中：

所述图像层被沉积成从所述基层的外表面向外突出，并且具有倾斜的周面，使得所述图像层的宽度沿所述图像层的厚度方向从内部向外部变窄。

5.根据权利要求4所述的标志结构，其中，所述透明层包括：

第一透射层，被沉积成填充在所述基层中、所述图像层周围的剩余区域，并具有耐热材料；以及

第二透射层，层压在所述图像层和所述第一透射层的外表面上。

6.根据权利要求1所述的标志结构，其中：

所述透明层沉积在所述基层上并完全包围所述图像层。

7.根据权利要求1所述的标志结构，其中：

所述基层包括从所述外表面凹入的凹刻部，所述图像层沉积在所述凹刻部上，并且所述透明层被沉积成覆盖所述基层和所述图像层。

8.根据权利要求7所述的标志结构，其中，所述透明层包括：

第三透射层，被沉积成填充所述凹刻部；

第四透射层，层压在所述基层和所述第三透射层的外表面上，并具有耐热材料；以及

第五透射层，层压在所述第四透射层的外表面上。

9.根据权利要求7所述的标志结构，其中：

所述凹刻部被形成为具有倾斜的周面，使得所述凹刻部的宽度沿所述图像层的厚度方向从所述凹刻部的内部向外部变大。

10.根据权利要求1所述的标志结构，其中：

所述图像层在外表面上具有精细图案。

11.根据权利要求1所述的标志结构，其中：

所述图像层与所述基层的外表面相接触。