[发明专利]一种玻璃载板与晶圆双面加工工艺有效

专利信息
申请号: 202011120980.0 申请日: 2020-10-19
公开(公告)号: CN112234017B 公开(公告)日: 2023-07-14
发明(设计)人: 严立巍;符德荣;文锺 申请(专利权)人: 绍兴同芯成集成电路有限公司
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683
代理公司: 北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙) 11357 代理人: 王依
地址: 312000 浙江省绍兴市越城区*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 玻璃 双面 加工 工艺
【说明书】:

发明公开了一种玻璃载板与晶圆双面加工工艺,属于晶圆加工领域。一种晶圆双面加工工艺,使用飞秒激光扫描玻璃载板的一端面,解构所述玻璃载板的一端面形成多条沟槽,每个所述沟槽围成封闭区域,多个所述封闭区域同心布置;将所述玻璃载板的另一端面与晶圆的一端面键合,并对晶圆的另一端面进行减薄;蚀刻去除所述封闭区域部分的玻璃载板,通过镭射将所述封闭区域的玻璃载板与所述晶圆解键合;使用氧电浆清洗所述封闭区域内的键合剂;进行晶圆的双面工艺;将所述晶圆的一端面固定在切割模框上,切割所述晶圆。

技术领域

本公开涉及晶圆加工领域,具体涉及一种玻璃载板与晶圆双面加工工艺。

背景技术

在现有的晶圆双面加工制程中,主要有两种工艺路线。一种是采用边缘呈环状的太古晶圆键合在玻璃载板上,再进行晶圆减薄工艺。另一种工艺路线,采用传统玻璃载板加工。

上述两种方式都存在一定的不足,其中,在太古晶圆工艺中,晶圆中央部份会弯曲,不能在高旋转或垂直式的装置中操作,水平式必须和缓的接触晶圆的底面,否则破片风险仍高.加工设备必须特制,一般制作正常厚片晶圆的设备无法运作。另外太古晶圆工艺中,晶圆表面存在较大的段差,制作光阻或其他涂布工艺时在边缘会产生反溅,严重影响边缘区域的均匀度,对良率影响很大。在传统的玻璃载板工艺中,难以处理超薄晶圆。

发明内容

针对现有技术的不足,本公开提出了一种玻璃载板与晶圆双面加工工艺。

本公开的目的可以通过以下技术方案实现:

一种晶圆双面加工工艺,包括以下步骤:

使用飞秒激光扫描玻璃载板的一端面,解构所述玻璃载板的一端面形成多条沟槽,每个所述沟槽首尾相连围成封闭区域;

将所述玻璃载板的另一端面与晶圆的一端面键合,并对晶圆的另一端面进行减薄;

蚀刻去除所述封闭区域内的玻璃载板,通过镭射使所述封闭区域的玻璃载板与所述晶圆解键合;

使用氧电浆清洗所述封闭区域内的键合剂。

可选地,清洗掉所述键合剂后进行晶圆的双面工艺;

将所述晶圆的一端面固定在切割模框上,切割所述晶圆。

可选地,所述晶圆固定在切割模框上后,使用氧电浆或镭射。

可选地,所述封闭区域呈扇形,使所述玻璃载板的一端面形成十字形的支撑部。

一种玻璃载板,其一端面上通过飞秒激光扫描形成多条沟槽,所述多条沟槽首尾相连围成封闭区域,所述玻璃载板的另一端面与所述晶圆键合。

可选地,蚀刻所述封闭区域内的玻璃载板,使所述玻璃载板的一端面形成支撑部。

可选地,所述封闭区域呈扇形。

可选地,所述封闭区域布置有四个,形成十字形的支撑部。

附图说明

下面结合附图对本公开作进一步的说明。

图1为本公开的形成沟槽后的玻璃载板结构示意图;

图2为本公开的经过蚀刻后的玻璃载板结构示意图;

图3为本公开的与晶圆键合后的玻璃载板结构示意图;

图4为本公开的去除键合剂后的玻璃载板结构示意图;

图5为本公开的另一示例中的玻璃载板的俯视图。

具体实施方式

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