[发明专利]光微通道阵列面板及其制备方法

权利要求书

1.一种光微通道阵列面板，其特征在于，包括多个透光通道玻璃和填充在多个所述透光通道玻璃之间的黑色玻璃；

其中，所述黑色玻璃形成面板结构，多个所述透光通道玻璃均为柱状，各所述透光通道玻璃以阵列的形式分布；

各所述透明通道玻璃的两端均凹陷于所述面板结构的端面。

2.根据权利要求1所述的光微通道阵列面板，其特征在于，各所述透光通道玻璃的光通道方向平行。

3.根据权利要求2所述的光微通道阵列面板，其特征在于，各所述透光通道玻璃的光通道方向均与所述面板结构的端面垂直。

4.根据权利要求2所述的光微通道阵列面板，其特征在于，各所述透光通道玻璃的光通道方向均与所述面板结构的端面形成一个锐角。

5.根据权利要求1-4任一项所述的光微通道阵列面板，其特征在于，所述黑色玻璃的耐酸能力大于所述透光通道玻璃的耐酸能力。

6.根据权利要求1-4任一项所述的光微通道阵列面板，其特征在于，所述透光通道玻璃均为圆柱状。

7.一种光微通道阵列面板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

对实心光微通道面板进行酸蚀处理；

清洗和干燥酸蚀后的所述面板，得到目标光微通道阵列面板；

其中，所述实心光微通道面板包括多个透光通道玻璃和填充在多个所述透光通道玻璃之间的黑色玻璃，所述黑色玻璃形成面板结构，多个所述透光通道玻璃均为柱状，各所述透光通道玻璃以阵列的形式分布，所述黑色玻璃的耐酸能力大于所述透光通道玻璃的耐酸能力。

8.根据权利要求7所述的光微通道阵列面板的制备方法，其特征在于，所述酸蚀处理所采用的酸为混合酸，所述混合酸的成分范围为：水：盐酸：硝酸：氢氟酸＝(15～20):(0.1～1):(0.1～1):(0.1～0.5)；

所述酸蚀处理时，混合酸的温度为20～30摄氏度，酸蚀处理的时长为120～200分钟。

9.根据权利要求7所述的光微通道阵列面板的制备方法，其特征在于，所述黑色玻璃的成分为：B₂O₃：0.01～15％，SiO₂：55～70％，Al₂O₃：0.01～7％，Na₂O：4～10％，K₂O：2～10％，CaO：1～6％，ZnO：1～6％，FeO：0.01～8％，CoO：0.01～5％，NiO：0.01～6％，MnO₂：0.01～7％，CeO₂：0.01～2％。

所述透光通道玻璃的成分为：B₂O₃：20～40％，SiO₂：20～30％，Al₂O₃：5～10％，Na₂O：2～10％，CaO：1～15％，BaO：10～30％。

10.根据权利要求7所述的光微通道阵列面板的制备方法，其特征在于，清洗和干燥酸蚀后的所述面板，包括：

将所述面板浸泡在PH值为12～14的碱性溶液内浸泡；

通过超声波对所述面板进行清洗；

配合超声波和纯水对所述面板清洗；

采用离心机将所述面板甩干。