[发明专利]溅射装置

权利要求书

1.一种溅射装置，包括配置有靶的真空室以及向靶施加给定电力的溅射电源，所述溅射装置通过向靶施加电力在真空室内形成等离子体气氛，并对靶进行溅射，从而在位于真空室内的基板表面上形成介电膜，其特征在于：

在对靶进行溅射时，围绕靶的周围设置作为阳极发挥作用的环形部件；

以沿靶厚度方向的靶的溅射面侧为上，环形部件配置为其上表面比靶的溅射面更靠下方，并且设置有悬浮电位的防护板，其设置在靶的周围且局部覆盖环形部件的上表面，环形部件还包括正电位保持装置，其将环形部件保持为正电位。

2.根据权利要求1所述的溅射装置，其特征在于：

所述溅射电源由脉冲DC电源构成，其负输出与所述靶以及其正输出与所述环形部件分别连接，所述溅射电源兼用作正电位保持装置。

3.根据权利要求2所述的溅射装置，其特征在于：

还具有冷却所述环形部件的冷却装置。

4.根据权利要求1至3中任意一项所述的溅射装置，其特征在于：

在所述环形部件的除上表面外的部分上，设置能够导入溅射气体的气体导入装置。