[发明专利]一种离型膜、干膜结构及导电膜

说明书

本发明公开了一种离型膜，包括离型层、滤光层和基材层，滤光层夹设在离型层和基材层之间，滤光层用于曝光时调整所述离型膜的透光率，离型膜的透光率范围为60％‑70％。本申请通过在离型膜中设置一滤光层，在满足曝光功效的前提下对曝光强度进行限制，避免在黄光工艺中因金属层的镂空区带来的交叉曝光风险，提升了产品的良品率。同时本申请还提供了一种干膜结构和导电膜。

技术领域

本发明设计显示器件领域，特别是一种离型膜、干膜结构及导电膜。

背景技术

传统的导电膜黄光工艺中包含压膜、曝光、显影、蚀刻、剥膜等工序，干膜是一种高分子的化合物，它通过紫外线的照射后能够产和一种聚合反应形成一种稳定的物质附着于板面，从而达到阻挡电镀和蚀刻的功能，利用干膜的这种特性，采用多次的黄光制程搭配不同的光罩设计可以分步形成线路区和显示区。而在形成显示区的湿线制程中，因为光罩设计，设备对位，干膜特性等原因容易导致部分不需要曝光的干膜曝光，这部分干膜在湿制程中脱落并沾在滚轮上，阻挡显示区的蚀刻，形成铜残留不良。

发明内容

本发明提供一种包含滤光层的离型膜，实现干膜结构的曝光选择，避免交叉曝光，导致金属层的残留。

一方面，本发明提供了一种离型膜，包括离型层、滤光层和基材层，所述滤光层夹设在所述离型层和所述基材层之间，所述滤光层用于光照时调整所述离型膜的透光率，在光照情况下，所述离型膜的透光率范围为60％-70％。实施例中的离型膜适包括离型层、滤光层和基材层，其中滤光层的作用在于调整离型膜的透光率，使其透光率保持在60％-70％，即半透明的作用。在使用过程中，包含该离型膜的干膜结构附着于被蚀刻PET基材层(涤纶树脂)两侧，在干膜结构和PET基材层之间设有蚀刻铜模，在黄光工艺中会有二次显影、蚀刻的过程，而PET基材层两侧的铜膜会因为第一次显影、蚀刻出现不同的镂空区，此时进行二次曝光时，光线会通过铜膜的镂空区，导致PET基材层两侧的干膜受到另一侧光线的干扰，导致曝光失败，而在本申请中，由于干膜结构中的离型膜具有滤光层，该滤光层能够极大的降低铜膜被蚀刻后的透光影响，确保黄光工艺的正常进行。

一种可能的实施方式中，所述滤光层的厚度范围为50um-100um。实施例中滤光层的作用在于控制整个离型膜的透光率，而对于滤光层而言，其厚度越大透光率越差，越有利于降低铜膜被蚀刻后的透光影响。但是现实中离型膜是卷成筒状进行存放，因此离型膜的厚度不易设计太厚，即滤光层的厚度不能设计的太厚，当滤光层的厚度范围为50um-100um时，既可以满足离型膜的通光率需要，同时也降低其对存放的影响。

一种可能的实施方式中，所述滤光层的颜色为绿色或蓝色。当滤光层颜色为绿色或蓝色时，能更为有效的对透光率进行限制，相同厚度下透光率更低。

一种可能的实施方式中，在所述基材层背离所述滤光层的一侧设有防静电层。在存放、加工过程中，离型膜上不可避免附带了静电，如果没有防静电层的设计，会导致离型膜因静电效应而吸附环境周围的灰尘，而在进行加工过程中这些灰尘会被带入到PET基材层或者其他产品上，造成尘埃污染，影响成品率。

一种可能的实施方式中，所述防静电层背离所述基材层的一侧设有涂料层和耐磨层。涂料层主要是含硅油的混合物，常见的是由丙烯酸、丙烯酸丁酯、苯乙酸、环氧树脂和甲苯中的几种物质组成，在离型膜中设计涂料层的有点在于增强整个离型膜的抗压性和强度，避免离型膜在受到外力作用时变形破损。在离型膜的存放和加工使用过程中，不可避免会对离型膜剐蹭，这里的实施方式通过耐磨层的设计能够增强其使用寿命。

一种可能的实施方式中，在所述离型层背离所述滤光层的一侧表面包括多个纳米吸附块。离型层的作用在于同干膜层进行贴附，这里设计的纳米吸附块能够增强离型层和干膜层之间的吸附效果，避免二者之间的气泡产生。