[发明专利]光致抗蚀剂料片缺陷检测系统及其方法在审
| 申请号: | 202011039433.X | 申请日: | 2020-09-28 |
| 公开(公告)号: | CN112630234A | 公开(公告)日: | 2021-04-09 |
| 发明(设计)人: | 黄冠勋;张勋豪;李岳龙 | 申请(专利权)人: | 由田新技股份有限公司 |
| 主分类号: | G01N21/95 | 分类号: | G01N21/95;G01N21/01 |
| 代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 罗英;刘芳 |
| 地址: | 中国台湾新北市中*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光致抗蚀剂料片 缺陷 检测 系统 及其 方法 | ||
本发明提供一种光致抗蚀剂料片缺陷检测系统及其方法。处理单元接收频宽范围相应的中心波长,并依据中心波长数据决定可调光束的中心波长,以使可调光束的中心波长不同于频宽范围相应的中心波长。可调波长光源装置依据中心波长发出可调光束,光致抗蚀剂料片位于可调光束的传递路径上。可调光束的第二部分穿透光致抗蚀剂料片后而形成穿透光束。成像镜头位于穿透光束的传递路径上。图像传感器具有图像感测面,穿透光束成像于图像感测面,以产生检测图像。
技术领域
本发明涉及一种检测技术,尤其涉及一种光致抗蚀剂料片缺陷检测系统及其方法。
背景技术
由于温度、材料、器材等因素的影响,电子零件的缺陷是难以完全避免的。为确保良率提升,对电子零件的制成品进行瑕疵检测为制程中重要的一环。在现有的技术中,多采用光学的方式检测膜厚不均。然而,现有的机台仅能通过固定波长的光学机台进行检测,无法针对不同的待测物采用适当的检测波长,使得检测效果有限。
发明内容
本发明提供一种光致抗蚀剂料片缺陷检测系统及其方法,以依据不同的光致抗蚀剂料片采用适当的检测波长,以提供更精细的检测结果。
本发明的光致抗蚀剂料片缺陷检测系统适用于检测光致抗蚀剂料片,且位于频宽范围中的光会通过光致抗蚀剂料片。光致抗蚀剂料片缺陷检测系统具有处理单元、可调波长光源装置、成像镜头以及图像传感器。处理单元接收频宽范围相应的中心波长,并依据中心波长数据决定可调光束的中心波长,以使可调光束的中心波长不同于频宽范围相应的中心波长。可调波长光源装置电性连接处理单元,依据中心波长发出可调光束,光致抗蚀剂料片位于可调光束的传递路径上,其中可调光束的第一部分被光致抗蚀剂料片吸收,且可调光束的第二部分穿透光致抗蚀剂料片后而形成穿透光束。成像镜头位于穿透光束的传递路径上。图像传感器电性连接处理单元,具有图像感测面,穿透光束通过成像镜头,成像于图像感测面,以产生检测图像。
本发明的光致抗蚀剂料片缺陷检测方法,适用于检测光致抗蚀剂料片,且位于频宽范围中的光会通过光致抗蚀剂料片。光致抗蚀剂料片缺陷检测方法具有下列步骤。接收频宽范围相应的中心波长;依据中心波长决定可调光束的中心波长,以使可调光束的中心波长不同于频宽范围相应的中心波长;以及依据中心波长发出可调光束。可调光束被光致抗蚀剂料片吸收色光束且穿透光致抗蚀剂料片后而形成穿透光束,且穿透光束通过成像镜头,成像于图像感测面,以产生检测图像。
基于上述,本发明的光致抗蚀剂料片缺陷检测系统及其方法能够通过可调波长光源装置进一步调整可调光束的中心波长,并使可调光束的中心波长不同于频宽范围相应的中心波长。基此,可调波长光源装置会依据不同的待测物采用适当的中心波长及频宽范围进行检测,以强化检测效果。
为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂,下文特举实施例,并配合附图作详细说明如下。
附图说明
图1示出本发明一实施例光致抗蚀剂料片缺陷检测系统的系统示意图;
图2示出本发明一实施例光致抗蚀剂料片缺陷检测方法的流程示意图。
附图标记说明
10:光致抗蚀剂料片
100:光致抗蚀剂料片缺陷检测系统
110:处理单元
120:可调波长光源装置
130:成像镜头
140:图像传感器
P1、P2:传递路径
S210~S230:步骤
具体实施方式
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