[发明专利]光致抗蚀剂料片缺陷检测系统及其方法在审
| 申请号: | 202011039433.X | 申请日: | 2020-09-28 |
| 公开(公告)号: | CN112630234A | 公开(公告)日: | 2021-04-09 |
| 发明(设计)人: | 黄冠勋;张勋豪;李岳龙 | 申请(专利权)人: | 由田新技股份有限公司 |
| 主分类号: | G01N21/95 | 分类号: | G01N21/95;G01N21/01 |
| 代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 罗英;刘芳 |
| 地址: | 中国台湾新北市中*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光致抗蚀剂料片 缺陷 检测 系统 及其 方法 | ||
1.一种光致抗蚀剂料片缺陷检测系统,其特征在于,适用于检测光致抗蚀剂料片,所述光致抗蚀剂料片缺陷检测系统包括:
处理单元,接收频宽范围相应的中心波长,并依据所述中心波长决定可调光束的中心波长,以使所述可调光束的中心波长不同于所述频宽范围相应的中心波长;
可调波长光源装置,电性连接所述处理单元,依据所述中心波长发出所述可调光束,所述光致抗蚀剂料片位于所述可调光束的传递路径上,其中所述可调光束的第一部分被所述光致抗蚀剂料片吸收,且所述可调光束的第二部分穿透所述光致抗蚀剂料片后而形成穿透光束;
成像镜头,位于所述穿透光束的传递路径上;以及
图像传感器,电性连接所述处理单元,具有图像感测面,所述穿透光束通过所述成像镜头,成像于所述图像感测面,以产生检测图像。
2.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂料片缺陷检测系统,其特征在于,其中所述可调光束的中心波长位于所述频宽范围相应的半高频宽外。
3.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂料片缺陷检测系统,其特征在于,其中所述处理单元分别判断所述频宽范围与红光、蓝光、绿光的频宽重叠的范围,并依据最小的频宽重叠的范围决定所述可调光束的中心波长,其中所述可调光束的中心波长会相同最小的频宽重叠的范围相应的所述红光、所述蓝光或所述绿光。
4.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂料片缺陷检测系统,其特征在于,其中,
所述处理单元还接收存在膜厚差的光致抗蚀剂料片的厚度差,并获取所述存在膜厚差的光致抗蚀剂料片相应所述可调光束的灰阶差,
所述处理单元还依据所述厚度差及所述灰阶差获取标准瑕疵比例。
5.根据权利要求4所述的光致抗蚀剂料片缺陷检测系统,其特征在于,其中,所述处理单元会依据所述标准瑕疵比例及所述检测图像的灰阶差,判断所述光致抗蚀剂模片是否存在瑕疵。
6.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂料片缺陷检测系统,其特征在于,还包括:
感测装置,感测所述中心波长。
7.一种光致抗蚀剂料片缺陷检测方法,其特征在于,适用于检测光致抗蚀剂料片,且位于频宽范围中的光会通过所述光致抗蚀剂料片,所述光致抗蚀剂料片缺陷检测方法包括:
接收所述频宽范围相应的中心波长;
依据所述中心波长决定可调光束的中心波长,以使所述可调光束的中心波长不同于所述频宽范围相应的中心波长;以及
依据所述中心波长发出所述可调光束,其中所述可调光束被所述光致抗蚀剂料片吸收且穿透所述光致抗蚀剂料片后而形成穿透光束,所述穿透光束通过成像镜头,成像于图像感测面,以产生检测图像。
8.根据权利要求7所述的光致抗蚀剂料片缺陷检测方法,其特征在于,其中,所述可调光束的中心波长位于所述频宽范围相应的半高频宽外。
9.根据权利要求7所述的光致抗蚀剂料片缺陷检测方法,其特征在于,其中,于依据所述中心波长决定所述可调光束的中心波长的步骤中,还包括:
分别判断所述频宽范围与红光、蓝光、绿光的频宽重叠的范围;以及
依据最小的频宽重叠的范围决定所述可调光束的中心波长,其中所述可调光束的中心波长会相同最小的频宽重叠的范围相应的所述红光、所述蓝光或所述绿光。
10.根据权利要求7所述的光致抗蚀剂料片缺陷检测方法,其特征在于,还包括:
接收存在膜厚差的光致抗蚀剂料片的厚度差,并获取所述存在膜厚差的光致抗蚀剂料片相应所述可调光束的灰阶差;以及
依据所述厚度差及所述灰阶差获取标准瑕疵比例。
11.根据权利要求10所述的光致抗蚀剂料片缺陷检测方法,其特征在于,还包括:
依据所述标准瑕疵比例及所述检测图像的灰阶差,判断所述光致抗蚀剂模片是否存在瑕疵。
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