[发明专利]一种电子束斑检测方法与装置在审

专利信息
申请号: 202011023329.1 申请日: 2020-09-25
公开(公告)号: CN114252903A 公开(公告)日: 2022-03-29
发明(设计)人: 刘明亮;李少林;官丽宁 申请(专利权)人: 桂林电子科技大学
主分类号: G01T1/29 分类号: G01T1/29;H01J37/244;H01J37/30
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 541004 广西*** 国省代码: 广西;45
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 电子束 检测 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种电子束斑检测方法与装置,其特征在于,包括:电子束发生装置、信号采集装置、检测板、真空室和计算机设备;

所述电子束发生装置,用于产生电子束并控制所述电子束的像散、聚焦和偏转;

所述计算机设备,用于控制所述电子束发生装置产生和驱使所述电子束按照预设轨迹扫描所述检测板产生过程信号,所述过程信号是所述电子束扫描所述检测板的过程中产生的信号;

所述检测板位于真空室内,具有能够导致过程信号产生变化的结构或材料特征;

所述信号采集装置,用于实时采集所述过程信号,包括信号传感器,所述信号传感器采集所述过程信号;信号放大器,所述信号放大器连接所述信号传感器,用于放大所述过程信号;AD采集卡,所述AD采集卡连接所述信号放大器采集放大后的过程信号;

所述计算机设备,还用于根据所述过程信号,计算检测点处电子束的位置偏差、束斑圆度和束斑尺寸,并根据所述位置偏差、束斑圆度和束斑尺寸,调整所述电子束发生装置的位置状态矩阵、像散状态矩阵和聚焦状态矩阵;

所述检测板为一块平板,具有至少一个检测点,且所述检测点的特征由几何结构或材料差异构成。

2.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述过程信号为二次电子信号、背散射电子信号或x射线信号;对应地,所述信号传感器为二次电子传感器、背散射电子传感器或x射线传感器。

3.如权利要求2所述的装置,所述信号传感器为二次电子传感器,且所述二次电子传感器的材质为导电材料。

4.如权利要求1-3所述的装置,其特征在于,所述检测板上具有M×M阵列的检测点特征,其中,M为正整数。

5.如权利要求4所述的装置,其特征在于,所述检测板为具有阵列十字槽特征的金属平板,且四个槽道的宽度相等,相邻十字槽中心的距离相等。

6.一种电子束斑检测的方法,其特征在于,应用于电子束斑检测装置,所述装置包括:电子束发生装置、信号采集装置、检测板、真空室和计算机设备,所述方法包括:

所述计算机设备根据当前检测状态矩阵和预设轨迹,生成所述电子束发生装置控制数据,并控制所述电子束发生装置驱使电子束按照预设轨迹扫描所述检测板,所述当前检测状态矩阵指当前时刻的位置状态矩阵、像散状态矩阵和聚焦状态矩阵;

所述计算机设备根据所述过程信号,计算检测点处电子束的位置偏差、束斑圆度和束斑尺寸,并根据所述位置偏差、束斑圆度和束斑尺寸,调整位置状态矩阵、像散状态矩阵和聚焦状态矩阵。

7.如权利要求6所述的方法,其特征在于,所述调整位置状态矩阵、像散状态矩阵和聚焦状态矩阵,包括:

在一次扫描-采集过程后,对位置状态矩阵、像散状态矩阵和聚焦状态矩阵都进行调整;

直至检测点处位置偏差、束斑圆度和束斑尺寸均满足条件,无需调整所述位置状态矩阵、所述像散状态矩阵和所述聚焦状态矩阵时,停止扫描-采集。

8.如权利要求7所述的方法,其特征在于,所述调整位置状态矩阵、像散状态矩阵和聚焦状态矩阵,包括:

一次扫描-采集过程后,对所述位置状态矩阵、所述像散状态矩阵和所述聚焦状态矩阵中一个状态矩阵进行调整;

在第一个调整的状态矩阵满足条件后,对检测点再进行扫描-采集,并从剩余的两个未调整的状态矩阵中任意选择一个进行调整,当第二个调整的状态矩阵满足条件后,继续对剩余的一个状态矩阵进行调整。

9.一种电子束斑检测方法与装置,其特征在于,靶座采用扁平立体三角形结构设计,三角形的中间镂空,三角形的顶部和底部分别开有通孔,所述靶安装槽中装有半透半反的靶片,三角形的底面设有靶座安装位。

10.根据权利要求9所述的电子束束斑检测器靶座,其特征在于,所述三角形的左右两斜边互相垂直,三角形的底部设有一个长方形靶基,所述靶座安装位设于所述长方形靶基的底部,所述靶片安装槽为三边卡位、一边开放的卡槽式结构;所述靶片安装位卡槽的上边、下边和一条侧边设有精密刻度线。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于桂林电子科技大学,未经桂林电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011023329.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top