[发明专利]一种基于低共熔溶剂的富氢抗氧化剂、制备方法及应用有效

专利信息
申请号: 202011021969.9 申请日: 2020-09-25
公开(公告)号: CN112340696B 公开(公告)日: 2021-07-13
发明(设计)人: 喻文;张嘉恒;冯景鹏;徐燕慧;张日翔 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学(深圳);浙江氢品十方科技有限公司
主分类号: C01B3/00 分类号: C01B3/00;A61K33/00;A61K8/67;A61K8/365;A61K8/41;A61K8/44;A61P39/06;A61Q19/08;A23L33/10;A23L33/15;A23L33/175
代理公司: 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268 代理人: 刘文求;朱阳波
地址: 518055 广东省深圳市南*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 低共熔 溶剂 抗氧化剂 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种基于低共熔溶剂的富氢抗氧化剂,其特征在于,包括:低共熔溶剂、氢气和水;按重量份计,所述基于低共熔溶剂的富氢抗氧化剂中所述低共熔溶剂和所述水的配比为:低共熔溶剂 1-25份;水 1-100份;所述低共熔溶剂包括氢键供体及氢键受体;所述氢键受体与所述氢键供体的摩尔比为1:1-1:4;

所述氢键供体为抗坏血酸或苹果酸;所述氢键受体为左旋肉碱或甜菜碱。

2.一种如权利要求1所述的基于低共熔溶剂的富氢抗氧化剂的制备方法,其特征在于,包括:

在预定温度下,将氢键供体和氢键受体进行混合,得到低共熔溶剂;

将所述低共熔溶剂同水进行混合,得到低共熔溶剂水溶液;

向所述低共熔溶剂水溶液注入氢气,得到基于低共熔溶剂的富氢抗氧化剂;

所述向所述低共熔溶剂水溶液中注入氢气的步骤,具体为:向所述低共熔溶剂水溶液中注入氢气至饱和;

所述氢键受体与所述氢键供体的摩尔比为1:1-1:4;

注入氢气的流量为10-50mL/min。

3.如权利要求2所述的基于低共熔溶剂的富氢抗氧化剂的制备方法,其特征在于,所述预定温度为40-130 ℃。

4.一种如权利要求1所述的低共熔溶剂的富氢抗氧化剂的应用,其特征在于,作为抗氧化剂,用于保健品和日用化学品中。

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