[发明专利]一种掩膜版在审
| 申请号： | 202011019614.6 | 申请日： | 2020-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN112068396A | 公开（公告）日： | 2020-12-11 |
| 发明（设计）人： | 李淑君;祝宏勋;孔施琴;张丽洁 | 申请（专利权）人： | 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/54 | 分类号： | G03F1/54;G02F1/1337 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 210033 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜版 | ||
1.一种掩膜版，用于光配向技术，其包括遮光区域和曝光区域，掩膜版的曝光区域包括正常曝光区域以及位于正常曝光区域两侧的拼接曝光区域，其特征在于：所述拼接曝光区域包括远离所述正常曝光区域的全遮光区域和靠近所述正常曝光区域的部分遮光区域，所述全遮光区域与所述部分遮光区域连接。
2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于：所述全遮光区域的形状为矩形，所述部分遮光区域的形状为正余弦波形。
3.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述全遮光区域的宽度大于部分遮光区域的宽度2倍以上。
4.根据权利要求3所述的掩膜版，其特征在于，全遮光区域的宽度为40mm，部分遮光区域的宽度为5mm。
5.一种掩膜版，用于光配向技术，其包括遮光区域和曝光区域，掩膜版的曝光区域包括正常曝光区域以及位于正常曝光区域两侧的拼接曝光区域，其特征在于：所述拼接曝光区域包括远离所述正常曝光区域的全遮光区域和靠近所述正常曝光区域的部分正常曝光区域，所述全遮光区域与所述部分正常曝光区域连接。
6.根据权利要求5所述的掩膜版，其特征在于：所述全遮光区域的形状为矩形，所述部分正常曝光区域与所述正常曝光区域结构相同。
7.根据权利要求6所述的掩膜版，其特征在于，所述全遮光区域的宽度大于部分遮光区域的宽度2倍以上。
8.根据权利要求7所述的掩膜版，其特征在于，全遮光区域的宽度为40mm，部分遮光区域的宽度为5mm。
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G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
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