[发明专利]阵列基板、显示面板和大玻璃面板

权利要求书

1.一种阵列基板，所述阵列基板分为位于中间区域的显示区域和位于外围区域的非显示区，所述非显示区内设有测试结构，其特征在于，所述测试结构包括：

基底；

第一导电层，形成于所述基底上；

绝缘层，形成于所述第一导电层上；

第二导电层，形成于所述绝缘层上，所述第一导电层和所述第二导电层中的其中一层作为信号输出端与所述显示区域连接；

钝化层，形成于所述第二导电层上，所述钝化层开设有贯穿所述钝化层并延伸至所述第一导电层的第一凹槽和贯穿所述钝化层并延伸至所述第二导电层的第二凹槽，所述第一凹槽中的多个凹槽和所述第二凹槽中的多个凹槽中的其中一个凹槽为大凹槽，其余凹槽为小凹槽，所述大凹槽的开口尺寸大于所述小凹槽的开口尺寸，且所述大凹槽的开口尺寸大于或等于300μm，所述开口尺寸为所述凹槽的最小开口宽度；

测试电极，形成于所述钝化层上，所述测试电极覆盖所述第一凹槽的内壁和所述第二凹槽的内壁以连接所述第一导电层和所述第二导电层。

2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述小凹槽包括多个所述第一凹槽和多个所述第二凹槽，定义所述小凹槽中的第一凹槽和第二凹槽分别为第一小凹槽和第二小凹槽，所述第一小凹槽和所述第二小凹槽的开口形状相同，所述第一小凹槽和所述第二小凹槽交替分布，且相邻所述小凹槽之间的间距相等。

3.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述测试结构具有多个所述小凹槽，所述大凹槽的开口形状和所述小凹槽的开口形状均呈矩形，所述小凹槽以阵列形式设于所述大凹槽的侧边，设有所述大凹槽和所述小凹槽的凹槽分布区域为正方形分布区域。

4.如权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述大凹槽位于所述正方形分布区域的中间位置，所述小凹槽对称设于所述大凹槽的两相对侧边。

5.如权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，定义在垂直于所述侧边的方向上，所述正方形分布区域的长度为D1，所述大凹槽的长度为D2，所述小凹槽分布区域的长度为D3，则，500μm≤D1≤1000μm，3/4≤D2/D1≤11/12，1/12≤2*D3/D1≤1/4。

6.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述显示区域包括扫描线和数据线，所述阵列基板包括第一组所述测试结构和第二组所述测试结构，其中，第一组所述测试结构的信号输出端与所述扫描线连接，第二组所述测试结构的信号输出端与所述数据线连接。

7.如权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述扫描线与所述第一导电层位于同一层，所述数据线与所述第二导电层位于同一层，第一组所述测试结构以所述第一组所述测试结构中的第一导电层作为信号输出端与所述扫描线连接，第二组所述测试结构以所述第二组测试结构中的第二导电层作为信号输出端与所述数据线连接。

8.如权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述显示区域还包括公共电极，所述阵列基板还包括第三组所述测试结构，所述第三组所述测试结构的信号输出端与所述显示区域的公共电极连接。

9.如权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，各组所述测试结构至少包括靠近所述显示区域两端的两个所述测试结构。

10.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述显示区域包括像素电极，所述像素电极与所述测试电极位于同一层。

11.如权利要求10所述的阵列基板，其特征在于，所述测试电极和像素电极均为铟锡氧化物。

12.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一导电层和所述第二导电层均为金属层。

13.一种显示面板，其特征在于，包括相对设置的阵列基板和彩膜基板，其中，所述阵列基板为权利要求1至12任一项所述的阵列基板。

14.一种大玻璃面板，其特征在于，包括多条延伸至所述大玻璃面板边缘的测试走线以及多个显示面板，各所述显示面板为权利要求13所述的显示面板，各所述显示面板中的测试结构的第一导电层或第二导电层与所述测试走线连接以从所述测试走线获取测试信号。