[发明专利]一种组合式套刻标记、使用套刻标记测量套刻误差的方法

权利要求书

1.一种组合式套刻标记，其特征在于，包括：

当层比较标记，包括第一比较标记和形成于所述第一比较标记周围的第二比较标记；

前层基准标记，包括第一基准标记和形成于所述第一基准标记周围的第二基准标记；

其中，所述第一比较标记与所述第一基准标记上下对应地设置，所述第二比较标记与所述第二基准标记上下对应地设置。

2.根据权利要求1所述的组合式套刻标记，其特征在于，

所述第一比较标记和所述第一基准标记均为基于衍射的套刻标记；

所述第二比较标记和所述第二基准标记均为基于图像的套刻标记。

3.根据权利要求2所述的组合式套刻标记，其特征在于，

所述第二比较标记，包括用于测量第一方向上的套刻误差的x轴比较标记和用于测量第二方向上的套刻误差的y轴比较标记；

所述第二基准标记，包括x轴基准标记和y轴基准标记；

其中，所述x轴比较标记与所述x轴基准标记一一对应地设置，所述y轴比较标记与所述y轴基准标记一一对应地设置；所述第一方向与所述第二方向垂直。

4.根据权利要求3所述的组合式套刻标记，其特征在于，

所述x轴比较标记，数量为多个，沿平面x轴方向上设置于所述第一比较标记的左侧和/或右侧；

所述y轴比较标记，数量为多个，沿平面y轴方向上设置于所述第一比较标记的上侧和/或下侧。

5.根据权利要求3所述的组合式套刻标记，其特征在于，

所述x轴比较标记，数量为多个，沿平面y轴方向上设置于所述第一比较标记的上侧和/或下侧；

所述y轴比较标记，数量为多个，沿平面x轴方向上设置于所述第一比较标记的左侧和/或右侧。

6.根据权利要求2所述的组合式套刻标记，其特征在于，

所述第一基准标记，包括基准光栅；

所述第一比较标记，包括设置于基准光栅上方的比较光栅。

7.根据权利要求6所述的组合式套刻标记，其特征在于，

所述基准光栅，包括相互平行的多个条状区和位于相邻条状区之间的凹陷区；

所述比较光栅，与所述基准光栅具有完全相同的结构。

8.根据权利要求1所述的组合式套刻标记，其特征在于，

所述第二比较标记，包括相互平行的多个等间距线条图案；

所述第二基准标记，与所述第二比较标记具有完全相同的图案。

9.根据权利要求1所述的组合式套刻标记，其特征在于，

所述第一比较标记，与所述第二比较标记在同一道工序中形成；

所述第一基准标记，与所述第二基准标记在同一道工序中形成。

10.一种使用权利要求1至9中任一权利要求所述的套刻标记测量套刻误差的方法，其特征在于，包括：

利用第一比较标记和第一基准标记测量出第一套刻误差；

利用第二比较标记和第二基准标记测量出第二套刻误差；

根据所述第一套刻误差和/或所述第二套刻误差确定误差测量结果。