[发明专利]一种具有自清洁功能的激光直写结构以及激光雷达外罩在审
| 申请号： | 202010934653.2 | 申请日： | 2020-09-08 |
| 公开（公告）号： | CN112083396A | 公开（公告）日： | 2020-12-15 |
| 发明（设计）人： | 姜波;赵忠尧 | 申请（专利权）人： | 锐驰智光（苏州）科技有限公司 |
| 主分类号： | G01S7/481 | 分类号： | G01S7/481 |
| 代理公司： | 北京律谱知识产权代理事务所(普通合伙) 11457 | 代理人： | 黄云铎 |
| 地址： | 215505 江苏省苏州市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 具有 清洁 功能 激光 结构 以及 激光雷达 外罩 | ||
1.一种具有自清洁功能的激光直写结构，其特征在于，所述激光直写结构包括：玻璃基底(1)，微纳米结构(2)以及处理液；
所述微纳米结构(2)设置于所述玻璃基底(1)的上表面；
所述处理液涂抹于所述微纳米结构(2)的表面、以及相邻的两个微纳米结构(2)间裸露的玻璃基底(1)上，以提高所述激光直写结构的静态接触角。
2.如权利要求1所述的具有自清洁功能的激光直写结构，其特征在于，所述微纳米结构(2)为多边体。
3.如权利要求1所述的具有自清洁功能的激光直写结构，其特征在于，两个所述微纳米结构(2)的间距为50-100微米。
4.如权利要求1所述的具有自清洁功能的激光直写结构，其特征在于，所述微纳米结构(2)的高度为10-20微米。
5.如权利要求1至4中任一项所述的具有自清洁功能的激光直写结构，其特征在于，所述处理液的溶剂为甲苯。
6.如权利要求1至4中任一项所述的具有自清洁功能的激光直写结构，其特征在于，所述处理液的溶质为十二烷基三氯硅烷。
7.如权利要求1至4中任一项所述的具有自清洁功能的激光直写结构，其特征在于，所述处理液的浓度为1g/ml-3g/ml。
8.如权利要求1所述的具有自清洁功能的激光直写结构，其特征在于，所述微纳米结构(2)由激光器通过强度可变的激光束在所述玻璃基底(1)上曝光刻蚀而成。
9.如权利要求8所述的具有自清洁功能的激光直写结构，其特征在于，所述微纳米结构(2)在所述玻璃基底(1)上阵列分布。
10.一种激光雷达外罩，其特征在于，所述激光雷达外罩的罩体由如权利要求1至9中任一项所述的激光直写结构制成。
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