[发明专利]位移测量装置有效

专利信息
申请号: 202010883783.8 申请日: 2017-12-15
公开(公告)号: CN111982017B 公开(公告)日: 2023-05-02
发明(设计)人: 三浦佑太;菅孝博 申请(专利权)人: 欧姆龙株式会社
主分类号: G01B11/24 分类号: G01B11/24;G01B11/02
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 杨贝贝;臧建明
地址: 日本京都府京都市下京区*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 位移 测量 装置
【说明书】:

本发明提供一种位移测量装置,用以让用户容易识别包括不具有电子电路的传感器头的位移测量装置的测量状态。位移测量装置(1)包括:传感器头(30),具有光学系统且不具有电子电路;控制器(100);第1光纤维,将来自光投射部(10)的照射光传递至传感器头(30);及第2光纤维,将来自传感器头(30)的反射光传递至控制器(100)。控制部(50)具有:第1模式,对传感器头(30)与反射位置之间的距离进行测量;及第2模式,通过光投射部(10)的光投射状态来表示传感器头(30)与反射位置之间的距离是否处于规定距离范围的中央部。

本申请案是发明名称为“位移测量装置”,申请号为201711360394.1的专利申请案的分案申请。本申请案的母案是基于先前日本专利申请案第2017-048283(于2017年3月14日申请),并且要求其优先权,其全部内容以参考例揭示于此。本分案申请也要求上述的优先权。

技术领域

本发明是涉及一种位移测量装置。尤其,本发明是涉及一种包括不具有电子电路的传感器头的位移测量装置。

背景技术

作为对测量对象物的表面形状等进行检查的装置,已知有位移测量装置(位移传感器)。例如,日本专利特开2012-208102号公报(专利文献1)揭示利用共焦光学系统来以非接触的方式测量测量对象物的位移的共焦测量装置。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利特开2012-208102号公报

发明内容

[发明所要解决的问题]

在日本专利特开2012-208102号公报(专利文献1)中所记载的共焦测量装置中,传感器头不具有电子电路且传感器头与控制器分离。为了掌握位移测量装置的测量状态,位于传感器头附近的用户需要确认控制器的显示。

例如,在设置传感器头时,为了进行正确的测量,需要调整设置传感器头的位置。位移测量装置可测量的范围可表示为自感测器头的前面的距离的范围。一般而言,制造厂将该范围定义为位移测量装置的规格。本说明书中,将作为位移测量装置可测量的距离的范围而预先规定的范围称为“规定距离范围”。

以放置工件的位置为基准,调整传感器头的设置位置,以使该工件的位置进入规定距离范围内。在用户位于传感器头的附近时,有如下可能性:难以通过自控制器至用户的距离或用户相对于控制器的位置来确认控制器的显示。

本发明的目的在于提供一种用以用户容易识别包括不具有电子电路的传感器头的位移测量装置的测量状态的技术。

[解决问题的技术手段]

依据本发明的某局面的位移测量装置包括:传感器头,具有光学系统且不具有电子电路;控制器;第1光纤维,将来自光投射部的照射光传递至传感器头;以及第2光纤维,将来自传感器头的反射光传递至控制器,所述控制器具有:光投射部,产生照射光;光接收部,接收由传感器头所接收的照射光的反射光;及控制部,基于光接收部的光接收量来算出传感器头与反射光的反射位置之间的距离。控制部具有:第1模式,对传感器头与反射位置之间的距离进行测量;及第2模式,通过光投射部的光投射状态来表示传感器头与反射位置之间的距离是否处于规定距离范围的中央部。规定距离范围定义为位移测量装置可测量的距离的范围。规定距离范围的中央部定义为规定距离范围的中心附近的既定的距离。第1光纤维与第2光纤维可相同。

根据所述构成,可提供一种可实现用户容易识别传感器头与反射位置之间的距离是否处于规定距离范围的中央部的位移测量装置。在第2模式中,用户可通过自传感器头射出的光来确认位移测量装置的测量状态。

优选为:在第2模式中,控制部判断传感器头与反射位置之间的距离是否进入规定距离范围的中央部内,并通过光投射部的光投射状态来表示该判断结果。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于欧姆龙株式会社,未经欧姆龙株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010883783.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top