[发明专利]一种超高纯氧化铟粉体的制备方法在审
申请号: | 202010879381.0 | 申请日: | 2020-08-27 |
公开(公告)号: | CN112110480A | 公开(公告)日: | 2020-12-22 |
发明(设计)人: | 文宏福;叶俊峰;闻玉凤 | 申请(专利权)人: | 韶关市欧莱高新材料有限公司 |
主分类号: | C01G15/00 | 分类号: | C01G15/00 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 罗晓林 |
地址: | 512000 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 高纯 氧化 铟粉体 制备 方法 | ||
本发明公开了一种超高纯氧化铟粉体的制备方法,包括如下步骤:S1、将精铟粉加酸溶解,过滤后稀释得到浓度为10‑30g/L的铟盐溶液;将铟盐溶液加碱中和至pH为7‑9,得到白色沉淀;S2、将步骤S1得到的白色沉淀洗涤、浓缩得到固含量为40‑60%固液混合物;S3、将步骤S2得到的固液混合物加入硝酸溶解,得到铟离子浓度为10‑200g/L的澄清溶液,用氨水中和至PH值为7‑9得到氢氧化铟沉淀,经洗涤、干燥、粉碎、煅烧,得到超高纯度的氧化铟粉体。本发明先用酸溶解精铟粉,然后用碱中和得到碱性氢氧化铟沉淀,有效去除了精铟粉中的杂质离子;对于反应中引入的酸根离子通过再次用硝酸溶解彻底清除,从而得到超高纯的氧化铟粉体。
技术领域
本发明属于氧化铟制备技术领域,尤其涉及一种超高纯氧化铟粉体的制备方法。
背景技术
氧化铟是一种无机化工产品,用作光谱纯试剂、电子元件的材料、金属反射镜面的保护涂层、光电显示半导体薄膜、制造铟盐及玻璃等,是一种非常重要的化工原料。但是在使用的过程中发现,由于氧化铟的生产过程中不可避免的引入了比如氯离子、硫酸根离子、草酸根离子等,对最终的氧化铟的性能产生了很多的影响。目前也有部分生产采用硝酸溶解精铟的工艺,但是由于硝酸的强氧化性,在反应过程中有大量NO、NO2、N2O3及N2O5等有毒气体产生,且不易清除,对环境污染严重。因此,对超高纯度的氧化铟制备方法的研究成为本领域的研究热点之一。
发明内容
基于背景技术所述,本发明提供了一种超高纯氧化铟粉体的制备方法,先用酸溶解精铟粉,然后用碱中和得到碱性氢氧化铟沉淀,有效去除了精铟粉中的杂质离子;对于反应中引入的酸根离子通过再次用硝酸溶解彻底清除,从而得到超高纯的氧化铟粉体。
本发明提出的一种超高纯氧化铟粉体的制备方法,包括如下步骤:
S1、将精铟粉加酸溶解,过滤后稀释得到浓度为10-30g/L的铟盐溶液;将铟盐溶液加碱中和至pH为7-9,得到白色沉淀;
S2、将步骤S1得到的白色沉淀洗涤、浓缩得到固含量为40-50%固液混合物;
S3、将步骤S2得到的固液混合物加入硝酸溶解,得到铟离子浓度为10-200g/L的澄清溶液,用氨水中和至PH值为7-9得到氢氧化铟沉淀,经洗涤、干燥、粉碎、煅烧,得到超高纯度的氧化铟粉体。
优选地,S1中,精铟粉的纯度大于99.995%,粒度为100-200目。
优选地,S1中,酸为盐酸、硫酸、醋酸中的一种。
本发明中酸的纯度均为分析纯。
优选地,S1中,碱为氢氧化钠、氢氧化钾、氨水、乙二胺中的一种。
优选地,S2中,将白色沉淀用去离子水洗涤,直至洗涤液的电导率降至100μS·cm-1以下。
优选地,S3中,用去离子水对氢氧化铟沉淀进行洗涤,直至洗涤液电导率降至10μS·cm-1以下。
本发明中首先用酸溶解精铟粉,然后用碱中和得到碱性氢氧化铟沉淀,有效去除了精铟粉中的杂质离子;该步骤中溶解精铟粉需要使用大量的酸液,此步骤中不选用硝酸,可避免有毒气体的产生;接着对于反应中引入的少量酸根离子通过再次用硝酸溶解彻底清除,残余的极少量硝酸根则在煅烧时分解除去,从而获得超高纯度的氧化铟粉体,氧化铟的纯度为99.999%。
具体实施方式
下面结合具体实例对本发明做出详细说明,应当了解,实施例只用于说明本发明,而不是用于对本发明进行限定,任何在本发明基础上所做的修改、等同替换等均在本发明的保护范围内。
实施例1
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