[发明专利]一种哑光大理石瓷砖的制造方法

权利要求书

1.一种哑光大理石瓷砖的制造方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1.素坯制备；

S2.施大理石面釉；所述大理石面釉由以下质量份数计的组分组成：SiO₂ 63～69份，Al₂O₃ 20～24份，Fe₂O₃ 0.1～0.3份，TiO₂ 0.05～0.15份，ZrO₂ 0.05～0.15份，CaO 1.0～1.5份，MgO 1.3～1.6份，K₂O 1.3～1.7份，Na₂O 2.8～3.2份，ZnO 0.4～0.6份，P₂O₅ 0.1～0.2份；大理石面釉的釉比重1.7～2.0g/cm³，流速35～40秒，釉量400～800g/m²；

S3.印花，然后淋哑光抛釉；所述哑光抛釉化学成分组成含量为：SiO₂ 46.25％、Al₂O₃14.58％、K₂O 3.62％、Na₂O 2.48％、TiO₂ 0.09％、ZrO₂ 0.09％，Fe₂O₃ 0.21％、P₂O₅0.13％、MgO 4.17％，CaO 6.38％、BaO 7.95％、SrO 0.40％、ZnO 4.69％；烧失量8.96％，淋哑光抛釉采用钟罩式淋釉工艺，淋釉量控制范围为200-220g/块瓷砖，所述瓷砖的规格是80cm*80cm；

S4.烧成，烧成温度1050～1200℃、烧成周期40～60分钟，烧成后光泽度为5～10°；

S5.哑抛，所述哑抛采用泡沫弹性抛光模块，抛光目数为240目～300目。

2.根据权利要求1所述哑光大理石瓷砖的制造方法，其特征在于，所述大理石面釉化学成分组成含量为：SiO₂ 66.68％，Al₂O₃ 22.14％，Fe₂O₃ 0.22％，TiO₂ 0.10％，ZrO₂ 0.11％，CaO 1.26％，MgO 1.46％，K₂O 1.50％，Na₂O 3.08％，ZnO 0.49％，P₂O₅ 0.18％；烧失量2.78％。

3.根据权利要求1所述哑光大理石瓷砖的制造方法，其特征在于，S5中哑抛后表面光泽度为9～11°，然后打蜡。

4.根据权利要求1所述哑光大理石瓷砖的制造方法，其特征在于，S3所述的印花为喷墨印花、辊筒印花、丝网印花中的一种或两种以上混合。

5.根据权利要求1所述哑光大理石瓷砖的制造方法，其特征在于，所述哑光抛釉的制备方法为：配方原料混合均匀，加入水球磨13～15小时，得到釉浆，釉浆过筛球磨得釉料，釉料过120～150目筛，然后陈腐24～48小时备用。

6.根据权利要求5所述哑光大理石瓷砖的制造方法，其特征在于，所述水的加入量为原料干料重量的40～42％。

7.根据权利要求5所述哑光大理石瓷砖的制造方法，其特征在于，所述釉浆过筛球磨的工艺为：釉浆先过100～120目筛，再用350～400目筛过筛，筛余控制在0.1～0.4％，视最终筛余情况进一步球磨。

8.权利要求1-7任一所述哑光大理石瓷砖的制造方法制造获得的哑光大理石瓷砖。