[发明专利]一种具有缓冲和减振功能的晶圆研磨设备

权利要求书

1.一种具有缓冲和减振功能的晶圆研磨设备，包括工作台(1)、驱动箱(2)和传动轴(3)，所述驱动箱(2)设置在工作台(1)的上方且与工作台(1)固定连接，所述传动轴(3)竖向设置在驱动箱(2)和工作台(1)之间，所述驱动箱(2)内设有驱动装置和供水装置，所述传动轴(3)的顶端与驱动装置连接，其特征在于，所述工作台(1)上设有连接机构，所述传动轴(3)的底端设有研磨机构；

所述连接机构包括支撑板(4)和至少两个连接组件，所述支撑板(4)与传动轴(3)垂直且位于工作台(1)和传动轴(3)之间，所述支撑板(4)与工作台(1)之间设有间隙，所述连接组件以传动轴(3)的轴线为中心周向均匀分布在支撑板(4)的底部；

所述连接组件包括第一弹簧(5)、连接线(6)、定滑轮(7)、移动管(8)、移动盘(9)、移动杆(10)、支撑块(11)、第二弹簧(12)、连接孔和通孔，所述第一弹簧(5)位于支撑板(4)和工作台(1)之间，所述工作台(1)通过第一弹簧(5)与支撑板(4)连接，所述通孔设置在工作台(1)上，所述连接孔设置在支撑板(4)上，所述移动管(8)与传动轴(3)平行，所述移动管(8)依次穿过连接孔和通孔，所述移动管(8)与连接孔的内壁固定连接，所述移动管(8)与通孔的内壁滑动连接，所述移动管(8)的顶端与支撑板(4)的顶部处于同一平面，所述移动盘(9)和移动杆(10)均与移动管(8)同轴设置，所述移动盘(9)、移动杆(10)、第二弹簧(12)和支撑块(11)均位于移动管(8)内，所述移动盘(9)与移动管(8)的内壁滑动且密封连接，所述移动杆(10)的顶端固定在移动盘(9)的底部，所述支撑块(11)固定在移动管(8)的内壁上，所述支撑块(11)上设有装配孔，所述移动杆(10)穿过装配孔且与装配孔的内壁滑动连接，所述第二弹簧(12)位于移动盘(9)和支撑块(11)之间，所述支撑块(11)通过第二弹簧(12)与移动盘(9)连接，所述定滑轮(7)固定在移动管(8)的底端，所述连接线(6)的一端固定在移动杆(10)的底端，所述连接线(6)的另一端绕过定滑轮(7)固定在工作台(1)的底部；

所述研磨机构包括连接管(13)、研磨盘(14)和研磨组件，所述连接管(13)和研磨盘(14)均与传动轴(3)同轴设置，所述连接管(13)的顶端与传动轴(3)的底端密封且固定连接，所述研磨盘(14)与连接管(13)的底端抵靠且密封连接，所述研磨盘(14)上设有水孔，所述水孔与连接管(13)同轴设置且与连接管(13)连通，所述研磨盘(14)位于支撑板(4)和驱动箱(2)之间且与支撑板(4)之间设有间隙，所述研磨组件设置在连接管(13)上；

所述研磨组件包括密封管(15)、贯穿孔、两个密封环(16)、两个支撑单元和两个供水单元，所述密封管(15)和密封环(16)均与连接管(13)同轴设置，所述连接管(13)依次穿过两个密封环(16)，所述连接管(13)与密封环(16)滑动且密封连接，两个密封环(16)之间设有间隙，所述密封管(15)位于两个密封环(16)之间，所述密封管(15)的两端分别与两个密封环(16)密封且固定连接，所述连接管(13)穿过密封管(15)且与密封管(15)的内壁之间设有间隙，所述贯穿孔设置在连接管(13)上，所述连接管(13)通过贯穿孔与密封管(15)连通，所述支撑单元设置在密封管(15)内且与密封环(16)一一对应，所述供水单元以传动轴(3)的轴线为中心周向均匀分布；

所述支撑单元包括环形槽和三个滚珠(17)，所述环形槽设置在密封管(15)的内壁上，所述环形槽与密封管(15)同轴设置，所述滚珠(17)以传动轴(3)的轴线为中心周向均匀分布，所述滚珠(17)的球心设置在环形槽内，所述滚珠(17)与环形槽匹配且与环形槽的内壁滑动连接，所述滚珠(17)的球径大于环形槽的槽口宽度，所述滚珠(17)与连接管(13)固定连接；

所述供水单元包括水管(18)和辅助管(19)，所述水管(18)与传动轴(3)平行，所述辅助管(19)与水管(18)同轴设置，所述水管(18)的底端设置在靠近驱动箱(2)的密封环(16)上且与密封环(16)连通，所述气管的顶端插入辅助管(19)的底端，所述辅助管(19)的顶端固定在驱动箱(2)上且与供水装置连接，所述水管(18)与辅助管(19)的内壁滑动且密封连接。

2.如权利要求1所述的具有缓冲和减振功能的晶圆研磨设备，其特征在于，所述水管(18)与辅助管(19)的内壁上涂有密封脂。