[发明专利]一种自密封陶瓷罐及其制备方法

权利要求书

1.一种自密封陶瓷罐，其特征在于，包括罐体和盖体；

所述盖体的第一端面上设有限位台阶；所述限位台阶的第二端面上设有密封口沿；

所述第一端面和所述第二端面均朝向所述罐体；

所述罐体包括罐体颈部和主体部分；

所述盖体盖设于所述罐体上时，所述罐体颈部内侧壁与所述密封口沿外侧壁相抵触，所述罐体颈部的上端面与所述限位台阶的第二端面相抵触。

2.根据权利要求1所述的自密封陶瓷罐，其特征在于，所述限位台阶的形状为环形；

所述密封口沿的形状为环形。

3.根据权利要求1所述的自密封陶瓷罐，其特征在于，所述限位台阶的第二端面沿竖直方向上设有所述密封口沿。

4.根据权利要求1所述的自密封陶瓷罐，其特征在于，所述密封口沿的高度为1～4cm。

5.根据权利要求1所述的自密封陶瓷罐，其特征在于，所述密封口沿外侧壁和所述罐体颈部内侧壁均为抛光过的无釉的光滑陶瓷面。

6.根据权利要求5所述的自密封陶瓷罐，其特征在于，所述盖体盖设于所述罐体上时，所述密封口沿外侧壁与所述罐体颈部内侧壁的间隙为0.01～0.4mm。

7.根据权利要求1所述的自密封陶瓷罐，其特征在于，所述罐体颈部的上端面和所述限位台阶的第二端面均为抛光过的无釉的光滑陶瓷面。

8.根据权利要求7所述的自密封陶瓷罐，其特征在于，所述盖体盖设于所述罐体上时，所述罐体颈部的上端面与所述限位台阶的第二端面的间隙为0.01～0.4mm。

9.权利要求1至8任一项所述的自密封陶瓷罐的制备方法，其特征在于，所述方法至少包括：

(1)分别制备罐体坯体和盖体坯体，制备时，盖体密封口沿的厚度大于烧制成型时盖体密封口沿的厚度；罐体颈部的厚度大于烧制成型时罐体颈部的厚度，留出加工量；

(2)在罐体内和罐体外施釉，在盖体内和盖体外施釉；

(3)将施釉后的盖体和罐体置于窑炉中烧制成型；

(4)取出盖体和罐体，将盖体进行磨研，形成密封口沿和限位台阶；

(5)对罐体颈部内侧壁进行内圆磨研，然后抛光；对盖体密封口沿外侧壁进行外圆磨研，然后抛光；对限位台阶的第二端面和罐体颈部的上端面均进行平面磨研，然后抛光；

(6)抛去釉面层，至满足工艺要求。

10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，在所述步骤(4)中，所述磨研在磨床上进行；

在所述步骤(5)中，所述内圆磨研、所述外圆磨研和所述平面磨研均在磨床上进行；

优选地，所述磨床使用的磨轮选自树脂金刚石砂轮。