[发明专利]一种化学机械研磨机上的排水管道有效

专利信息
申请号: 202010787295.7 申请日: 2020-08-07
公开(公告)号: CN111872843B 公开(公告)日: 2022-05-10
发明(设计)人: 徐俊 申请(专利权)人: 潍坊裕泰高分子材料有限公司
主分类号: B24B37/34 分类号: B24B37/34;B24B57/02
代理公司: 合肥市科融知识产权代理事务所(普通合伙) 34126 代理人: 江兰
地址: 261000 山东省*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 化学 机械 研磨机 排水管道
【说明书】:

发明公开了一种化学机械研磨机上的排水管道,包括第一排水管和第二排水管,第一排水管和第二排水管之间设有U型的连接管,连接管由U型的上连接半管和下连接半管组成,上连接半管和下连接半管的两端分别成型有水平的上延伸半管和下延伸半管,上延伸半管的外端成型有圆环形的插管;所述上连接半管和上延伸半管两侧的下端面上成型有插条,下连接半管和下延伸半管两侧的上端面上成型有插槽,上连接半管和上延伸半管上的插条分别插接在下连接半管和下延伸半管的插槽内;所述插管的内壁上成型有贯穿插管外端面的插孔,第一排水管和第二排水管插接在插管的插孔内。

技术领域

本发明涉及化学机械研磨机的技术领域,更具体地说涉及一种化学机械研磨机上的排水管道。

背景技术

化学机械研磨技术综合了化学研磨和机械研磨的优势,可以在保证材料去除效率的同时,获得较完美的表面,得到的平整度比单纯使用这两种研磨要高出1-2个数量级,并且可以实现纳米级到原子级的表面粗糙度。以硅片为例,将硅片倒置以使其待研磨的表面与研磨垫接触,研磨头压在硅片上;控制研磨垫自转和研磨头自转,并控制研磨液喷头向研磨垫上喷射研磨液,同时研磨头对硅片施加朝下的压力,研磨液随研磨垫自转流入硅片的待研磨面与研磨垫之间的缝隙间,并且在硅片的运动中对硅片的待研磨面进行研磨。研磨过程中,会产生研磨废液,产生的研磨废液会通过设备的排水管道排走。由于研磨废液中会存在大量的研磨液残渣,研磨废液在排走的过程中,研磨液残渣会在排水管道内积聚结晶,随着使用时间的推移,研磨液残渣和结晶会不断的聚集在排管道的内壁上,最终导致管道堵塞,管道的疏通作业较为不便。

发明内容

本发明的目的就是针对现有技术之不足,而提供了一种化学机械研磨机上的排水管道,其方便清理排管道内研磨液残渣积聚生成的结晶,减少排水管路的堵塞。

为实现上述目的,本发明采用的技术方案如下:

一种化学机械研磨机上的排水管道,包括第一排水管和第二排水管,第一排水管和第二排水管之间设有U型的连接管,连接管由U型的上连接半管和下连接半管组成,上连接半管和下连接半管的两端分别成型有水平的上延伸半管和下延伸半管,上延伸半管的外端成型有圆环形的插管;所述上连接半管和上延伸半管两侧的下端面上成型有插条,下连接半管和下延伸半管两侧的上端面上成型有插槽,上连接半管和上延伸半管上的插条分别插接在下连接半管和下延伸半管的插槽内;所述插管的内壁上成型有贯穿插管外端面的插孔,第一排水管和第二排水管插接在插管的插孔内;所述插管的外壁上插套固定有外螺纹套,外螺纹套上螺接有内螺纹套,内螺纹套一端的内壁上粘贴固定有橡胶密封套,橡胶密封套压靠在上延伸半管、下延伸半管和插管的外壁上;内螺纹套另一端相对的内壁上成型有导向槽,所述的第一排水管和第二排水管上均插套固定有定位套,定位套的外壁上成型有导向条,导向条插接在内螺纹套的导向槽内。

优选的,所述下延伸半管的外端面抵靠在插管的侧端面上并成型有连通下延伸半管插槽两侧的密封槽,下延伸半管上的密封槽和插槽和下连接半管的插槽内插接有密封环,密封环夹持在上连接半管和下连接半管之间。

优选的,所述上连接半管的外壁和下连接半管的外壁在同一圆面内,下延伸半管的外壁和上延伸半管的外壁在同一圆面内;上连接半管两侧的下端面抵靠在下连接半管两侧的上端面上。

优选的,所述内螺纹套的长度大于外螺纹套的长度,外螺纹套和橡胶密封套之间设有间隙。

优选的,所述外螺纹套的外侧端面和插管的外侧端面相齐平,外螺纹套的长度小于插管的长度。

优选的,所述外螺纹套和橡胶密封套之间的间距大于橡胶密封套内端面至下延伸半管外端面的距离。

优选的,所述插管的插孔内插接有密封垫圈,密封垫圈夹持在插管与第一排水管之间或插管与第二排水管之间。

优选的,所述插管的内管径等于第一排水管或第二排水管的内管径。

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