[发明专利]一种基于相机阵列选择性光场重聚焦的显著性检测方法有效

专利信息
申请号: 202010787230.2 申请日: 2020-08-07
公开(公告)号: CN111881925B 公开(公告)日: 2023-04-18
发明(设计)人: 王世刚;冯洁;韦健;赵岩 申请(专利权)人: 吉林大学
主分类号: G06V10/46 分类号: G06V10/46;G06V10/56
代理公司: 长春吉大专利代理有限责任公司 22201 代理人: 邵铭康;朱世林
地址: 130012 吉林省长春市*** 国省代码: 吉林;22
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 相机 阵列 选择性 光场重 聚焦 显著 检测 方法
【权利要求书】:

1.一种基于相机阵列选择性光场重聚焦的显著性检测方法,其特征在于包括下列步骤:

1.1获取视点图像数据集,选择Stanford光场数据集和4D光场数据集;

1.2视差估计,采用RGDP算法对相机阵列进行视差估计,得到视差图;

1.3超分辨率重建,建立摄像机阵列的退化模型:

yk=DHFi,kx+nk (1)

其中:yk表示第k个相机捕获的子图像;x表示高分辨率图像;nk表示间域附加噪声;D、H和Fi,k分别表示下采样、光学模糊和位移;超分辨率重建主要是估计x以适应退化模型,即最小化下列方程:

其中:第一项表示观测值与理想高分辨率图像间的距离;wb是基于深度和空间变化的权重向量;⊙表示数量积运算符;Jb(x)为bokeh正则化项;JBTV(x)为双边总变异BTV正则化项;λb和λBTV为正则化系数;Jb(x)可表示为:

其中:xb为bokeh图像,由bokeh渲染生成;使用梯度下降法逼近最优解,步长和迭代次数均可设置;

1.4bokeh渲染,采用基于深度的各向异性滤波器对未聚焦区域进行渲染,通过调节其中参数可实现对场景中某一深度层进行聚焦,而对其他深度层产生不同程度的模糊;

假设p点没有被聚焦,其对应的混叠圆半径r为:

其中:γf和γp分别表示焦距深度和p点深度;f表示焦距;F为透镜的F数;深度γ可表示为γ=fB/d,其中B为基线长度,d为视差;那么公式(4)可表示为:

在bokeh渲染过程中f、F、B和df是固定不变的,那么p点的混叠圆半径r与p点和焦点之间的绝对视差成正比;将K=f/2F(B-df)作为bokeh渲染的强度,代表整体的bokeh程度,同时反映场景深度,K越大表示bokeh程度越强,景深越小;

假设Q点周围存在多个以Pi为中心的混叠圆,由于混叠圆中强度是均匀分布的,那么计算Pi对Q的贡献可通过其中为Pi点bokeh渲染前的强度;为以Pi为中心的混叠圆的半径;为Pi与Q之间的距离;那么Q点强度可表示为:

其中:表示Q点周围点的集合;rmax是图像中混叠圆半径的最大值;由于ΩQ中的某些点可能对Q点没有作用,所以将权值定义为:

各向异性滤波器基于公式(6)、(7),使用双三次插值渲染中心视点图像生成bokehimage xb

另外还需要对步骤1.3中公式(2)、(3)中的wb进行计算,一幅图像的模糊程度由混叠圆半径决定,那么可通过以下两个步骤计算wb

第一步:通过ηP=(rP-rmin)/(rmax-rmin)将半径归一化至[0,1],rmin为图像中混叠圆半径的最小值;

第二步:将ηP分为focus和bokeh两部分,使用sigmoid函数将ηP转化为wP

wP=1/(1+exp{-a(ηP-b)}) (8)

其中:a为衰减因子;b为阈值;遍历所有像素点,重排序wP得到向量wb

1.5显著性检测,首先采用SLIC算法对重聚焦后的图像进行超像素分割;然后,构建图模型G=(V,E),其中V={v1,...,vn}为超像素点集,为边集,对其增加以下三条规则:

其中:表示vi的直接空间邻居;B表示图像边缘处边框节点的集合;表示vi在LabColor Space的分簇,由APC算法计算而来;那么规则1连接了vi和其几何邻居以及邻居的邻居,规则2连接边界节点,规则3连接了vi和与其颜色相似的节点;定义边权值矩阵W=(wij)n×n表示图节点相似度,图节点vi与vj之间的权值项定义为:

其中:δ为控制权重强度的一个常数,第一项||ci-cj||表示vi与vj在Lab Color Space的欧式距离,第二项||sin(π|di-dj|)||表示在正弦空间下计算的几何距离;

接着分两个阶段生成并细化显著图,首先采用DSMR算法进行基于变形平滑的标签传播,DSMR算法的目标是关于表示向量z=(zi)n计算一个排序向量f=(fi)n,如果vi是种子节点,则zi=1,否则zi=0,可通过下式来计算:

其中:度矩阵式(11)中第一项为变形平滑约束,其中结合了标准平滑和局部平滑约束,表明相邻两节点的排序值不应该变化太大,μ2用于平衡两个光滑约束的权重,第二项R(f)=(f-D-1z)TD(f-D-1z)为标签适应度约束,保证种子节点的排序值与其初始值相差不大,μ1用于平衡变形平滑约束SD(f)和标签适应度约束R(f);令式(11)导数为0可得f=(fi)n的最优解:

其中:α=1/(1+μ1);β=μ2/(1+μ1);分别将上边界节点、下边界节点、左边界节点、右边界节点作为种子节点得到四个排序向量结果f(T),f(V),f(L),f(R),将四个传播结果结合起来生成粗图

其中:是f归一化至[0,1]区间的向量;

虽然Mc中大部分显著性区域已被高亮,但仍受到来自背景噪声的影响;第二阶段,对上一阶段得到的显著图进行细化;首先,采用边界盒生成包含目标区域排除背景区域的目标图

其中:Rj为边界框Ωj的分数;δ是指示函数,表示vi是否在边框内;B为边界盒生成的边框数量;结合Mc和Mo细化模型,细化结果g通过求解下式而来:

其中:表示对角矩阵;Dc、vc分别是Mc的度矩阵和体积;为在Mc上计算的新权值矩阵:

式(15)中:第一项为变形平滑约束,保证显著性值连续,第二项||g-Mc||2为标签适应度约束,保证细化的结果g与粗图Mc相差不大,第三项gTDog是通过Mo构建的正则化约束,抑制不属于目标的背景区域,增强可能属于目标的区域;令式(14)导数为0得最优解g:

将最优解g归一化至[0,1]区间,赋值给对应的超像素,生成精细显著图Mr,即为最终可选择性的显著性检测的结果。

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