[发明专利]一种超薄滤光片的蒸发镀膜工艺

说明书

本发明提供热转换效率高、耗能低、不易变形、单次处理量多和镀膜均匀的一种超薄滤光片的蒸发镀膜工艺，采用真空式蒸发镀膜机，内腔为真空室，超薄滤光片和玻璃盖板分别安装在套环内的下部和上部，大气压下，将套环装入真空室内的镀膜伞伞面上，在真空室内两侧的坩埚中分别加入五氧化三钛和二氧化硅，用真空泵组将真空室内的空气抽出，启动加热丝，打开离子源，通入氧气和氩气，打开电子枪，离子源发出的离子光束牵引钛离子和硅离子镀在超薄滤光片的镀膜面上，镀完后，真空室冷却10分钟～15分钟。

技术领域

本发明属于滤光片技术领域，具体涉及一种超薄滤光片的蒸发镀膜工艺。

背景技术

滤光片是一种可从复合光中分离出某一波段单色光的光学器件，其被广泛的应用于各种光电产业领域。随着技术的不断发展，光电产品正逐渐向小、薄的方向发展，因此滤光片的厚度也变得越来越薄。而对于超薄滤光片而言，目前的镀膜工艺存在着一定的问题，而对于超薄滤光片而言，由于超薄滤光片的厚度小于0.15mm，在整块超薄滤光片镀膜后，超薄滤光片往往会产生变形，这样就会对滤光片的质量造成不利影响，同时超薄滤光片的单次处理量少，导致超薄滤光片的镀膜成本增加；

现有的超薄滤光片的镀膜工艺大都为热电阻式加热法，传统热电阻式加热法的热转换效率低而秏能高，电阻式蒸镀受限于加热温度，多半只从事铝、铬、金、银等少数几种薄膜，对蒸镀材料的选择方面受限较大，镀膜不均匀，从而导致镀膜效果差。

发明内容

针对现有技术存在的不足，本发明提供一种超薄滤光片的蒸发镀膜工艺，解决了超薄滤光片镀膜过程中热转换效率低、耗能高、易变形、单次处理量少和镀膜不均匀的问题。

本发明是通过以下技术方案实现的：

一种超薄滤光片的蒸发镀膜工艺，其特征在于：包括以下步骤：

步骤一，采用真空式蒸发镀膜机，内腔为真空室，超薄滤光片和玻璃盖板分别安装在套环内的下部和上部，大气压下，将所述套环放置在镀膜伞上的安装槽内，所述超薄滤光片的镀膜面朝伞内，所述玻璃盖板的玻璃面朝伞外；

步骤二，加镀膜材料，在所述真空室内两侧的坩埚中分别加入五氧化三钛和二氧化硅；

步骤三，抽真空，用真空泵组将所述真空室内的空气抽出，同时设置所述镀膜伞的回转速度为25～30Rpm；

步骤四，加热，当所述真空室的真空度达到1.5E-3pa～2.0E-3pa时，启动加热丝；

步骤五，离子轰击，当所述真空室内温度达到80摄氏度～200摄氏度时，打开离子源，同时往所述离子源内通入氧气和氩气，所述氧气和氩气的通入量分别为30sccm～60sccm和8sccm～12sccm，所述离子源发出由氩离子和氧离子组成的离子光束轰击所述超薄滤光片的镀膜面，轰击时间为120～240S；

步骤六，电子蒸镀，打开电子枪，所述电子枪预熔30～60s，所述电子枪的电子束撞击所述五氧化三钛和二氧化硅，所述五氧化三钛和二氧化硅分别解离成钛离子和硅离子，所述五氧化三钛的成膜速率为2.5～3.5A/S，所述二氧化硅的成膜速率为8～12A/S；

步骤七，离子束牵引，所述离子源发出的由氩离子和氧离子组成的离子光束牵引钛离子和硅离子，并将钛离子和硅离子交替镀在所述超薄滤光片的镀膜面上；

步骤八，镀完冷却，所述真空室冷却10分钟～15分钟。

进一步的，所述真空室内侧的内壁上安装有开口向上结构的百叶窗，所述百叶窗与所述真空泵组相连通；

进一步的，所述套环为方框结构，所述套环内上部和下部均开有放置槽；

进一步的，所述镀膜伞伞面上安装有160～180块所述超薄滤光片；