[发明专利]一种超薄滤光片的蒸发镀膜工艺

权利要求书

1.一种超薄滤光片的蒸发镀膜工艺，其特征在于：包括以下步骤：

步骤一，采用真空式蒸发镀膜机，内腔为真空室(2)，超薄滤光片(1)和玻璃盖板(3)分别安装在套环(4)内的下部和上部，大气压下，将所述套环(4)放置在镀膜伞(5)上的安装槽内，所述超薄滤光片(1)的镀膜面朝伞内，所述玻璃盖板(3)的玻璃面朝伞外；

步骤二，加镀膜材料，在所述真空室(2)内两侧的坩埚(6)中分别加入五氧化三钛(7)和二氧化硅(8)；

步骤三，抽真空，用真空泵组将所述真空室(2)内的空气抽出，同时设置所述镀膜伞(5)的回转速度为25～30Rpm；

步骤四，加热，当所述真空室(2)的真空度达到1.5E-3pa～2.0E-3pa时，启动加热丝(9)；

步骤五，离子轰击，当所述真空室(2)内温度达到80摄氏度～200摄氏度时，打开离子源(10)，同时往所述离子源(10)内通入氧气和氩气，所述氧气和氩气的通入量分别为30sccm～60sccm和8sccm～12sccm，所述离子源(10)发出由氩离子和氧离子组成的离子光束轰击所述超薄滤光片(1)的镀膜面，轰击时间为120～240S；

步骤六，电子蒸镀，打开电子枪(11)，所述电子枪(11)预熔30～60s，所述电子枪(11)的电子束撞击所述五氧化三钛(7)和二氧化硅(8)，所述五氧化三钛(7)和二氧化硅(8)分别解离成钛离子和硅离子，所述五氧化三钛(7)的成膜速率为2.5～3.5A/S，所述二氧化硅(8)的成膜速率为8～12A/S；

步骤七，离子束牵引，所述离子源(10)发出的由氩离子和氧离子组成的离子光束牵引钛离子和硅离子，并将钛离子和硅离子交替镀在所述超薄滤光片(1)的镀膜面上，所述钛离子和硅离子在所述超薄滤光片(1)的镀膜面上分别交替镀有二十层；

步骤八，镀完冷却，所述真空室(2)冷却10分钟～15分钟。

2.根据权利要求1所述的一种超薄滤光片的蒸发镀膜工艺，其特征在于：所述真空室(2)内侧的内壁上安装有开口向上结构的百叶窗(12)，所述百叶窗(12)与所述真空泵组相连通。

3.根据权利要求1所述的一种超薄滤光片的蒸发镀膜工艺，其特征在于：所述套环(4)为方框结构，所述套环内上部和下部均开有放置槽(13)。

4.根据权利要求1所述的一种超薄滤光片的蒸发镀膜工艺，其特征在于：所述镀膜伞(5)伞面上安装有160～180块所述超薄滤光片(1)。

5.根据权利要求1所述的一种一种超薄滤光片的蒸发镀膜工艺，其特征在于：所述坩埚(6)的电路设计为接地电位，所述坩埚(6)底部开有进水口和出水口。

6.根据权利要求1所述的一种超薄滤光片的蒸发镀膜工艺，其特征在于：所述电子枪(11)的电子束转向为180度。

7.根据权利要求1所述的一种超薄滤光片的蒸发镀膜工艺，其特征在于：所述真空室(2)温度为160度。

8.根据权利要求1所述的一种超薄滤光片的蒸发镀膜工艺，其特征在于：所述离子源(10)的电压为1100V。