[发明专利]一种避免软硬结合板孔铜断裂的加工工艺有效

专利信息
申请号: 202010652680.0 申请日: 2020-07-08
公开(公告)号: CN111712065B 公开(公告)日: 2022-08-12
发明(设计)人: 华福德;张志敏 申请(专利权)人: 高德(江苏)电子科技股份有限公司
主分类号: H05K3/42 分类号: H05K3/42;H05K3/46
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 代理人: 殷红梅;夏苏娟
地址: 214101 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 避免 软硬 结合 板孔铜 断裂 加工 工艺
【说明书】:

发明涉及一种软硬结合板的加工工艺,具体来说是一种避免软硬结合板孔铜断裂的加工工艺,包括以下步骤:软硬结合板制备,在软硬结合板上进行机械钻孔,在机械钻孔孔内和软硬结合板的上下表面进行镀铜,孔铜总铜厚为T,分两次或三次进行电镀,最后一次电镀的孔铜铜厚不少于12.5微米。本发明根据孔铜总厚度分多次进行不同厚度的镀铜,避免了后制程减铜过多导致的产品不良,有效解决了孔铜断裂异常,提升了产品信赖性。

技术领域

本发明涉及一种软硬结合板的加工工艺,具体来说是一种避免软硬结合板孔铜断裂的加工工艺,尤其是汽车或工业控制应用的软硬结合板。

背景技术

印刷线路板分为硬板、软板和软硬结合板三大类,其中硬板材料都为FR4材料,软板大都为单面或是双面板,其钻孔、除胶和电镀后孔壁情况比较平整,且压合时都为同一种材料,所有不会存在因不同材料的CTE(热膨胀系数)值不同导致的孔铜在冷热冲击测试时断裂。但是软硬结合板则不同,其软板为PI材料(聚酰亚胺材料),硬板为FR4材料,经过钻孔、除胶和电镀后孔壁比较粗糙,而且PI材料的沉铜效果比较差,一般会在PI和FR4材料的交叠处存在一个微小拐角,且两种材料的CTE值相差近10倍,耐不住冷热冲击信赖性测试,表现的现象为孔铜断裂。

发明内容

本发明旨在解决上述问题,提供了一种避免软硬结合板孔铜断裂的加工工艺,可以有效解决孔铜断裂异常,提升产品信赖性。

按照本发明的技术方案,所述避免软硬结合板孔铜断裂的加工工艺,包括以下步骤,

A. 制作印刷线路软硬结合板的软板层:以软板为中间层,软板的上下均覆盖一层软板铜箔;

B. 制作第一介质层半固化片,第一介质层半固化片对应软区位置开设窗口;

C. 制作硬板层:以硬板为中间层,硬板的上下铺设硬板铜箔,铜箔上开有软硬交接线避让口;

D. 制作第二介质层半固化片;

E. 准备铜箔;

F. 按照铜箔、第二介质层半固化片、硬板层、第一介质层半固化片、软板层、第一介质层半固化片、硬板层、第二介质层半固化片、铜箔的顺序自上到下依次设置,经过压合后得到产品软硬结合板;

G. 在压合后的软硬结合板上进行机械钻孔;

H. 在机械钻孔孔内和软硬结合板的上下表面进行镀铜,孔铜总铜厚为T,分两次或三次进行电镀,最后一次电镀的孔铜铜厚不少于12.5微米。

进一步的,所述步骤A中软板层对应成品板需要弯折的区域点粘并压合覆盖膜。

进一步的,所述第二次介质层半固化片压合后填铜厚度为0.075mm。

进一步的,所述步骤H中,第一次电镀孔铜厚度T1为5-8微米;T-T120.5微米时,分两次进行电镀,第二次电镀孔铜厚度T2=T-T1,且T2≥12.5微米;T-T1≥20.5微米时,分三次进行电镀,第二次电镀孔铜厚度T2'为5-8微米,第三次电镀孔铜厚T3=T-T1-T2',且T3≥12.5微米。

本发明的有益效果在于:根据孔铜总厚度分多次进行不同厚度的镀铜,避免了后制程减铜过多导致的产品不良,有效解决了孔铜断裂异常,提升了产品信赖性。

附图说明

图1为本发明软硬结合板的结构示意图。

图2为实施例一中电镀后的软硬结合板的结构示意图。

图3为实施例二中电镀后的软硬结合板的结构示意图。

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