[发明专利]一种阳离子消光填料及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202010643567.6 申请日: 2020-07-07
公开(公告)号: CN111748234A 公开(公告)日: 2020-10-09
发明(设计)人: 高梦华;朱琴;刘培杰;曾晓林 申请(专利权)人: 威远达威木业有限公司
主分类号: C09D7/42 分类号: C09D7/42;C09D7/65;C14C11/00
代理公司: 广东前海律师事务所 44323 代理人: 苏磊
地址: 642450 四川省内*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 阳离子 填料 及其 制备 方法
【说明书】:

发明提供了一种阳离子消光填料及其制备方法,所述阳离子消光填料的原料至少包括如下重量份的组分:阳离子高分子聚合物10‑20份;和高分子聚合物改性二氧化硅10‑15份。本发明通过引入阳离子高分子聚合物对高分子聚合物改性的二氧化硅进行分散制得性能稳定的哑光浆,使得所制得的阳离子消光填料性能稳定,安全环保,能够在阳离子体系中稳定的存在,而且在真皮底涂中具有良好的消光能力和遮盖性。另外,本发明的阳离子消光填料的制备方法简单易操作。

技术领域

本发明涉及一种高分子材料技术领域,且特别涉及一种阳离子消光填料及其制备方法。

背景技术

皮革制品在日常生活中的应用范围正在逐步扩大,也被广大的消费者所接受。皮革涂饰是皮革加工的重要工序,它赋予皮革不同的风格和使用性能,在制革过程中具有不可忽视的作用。皮革涂饰具有美化皮革外观、修复伤残缺陷和提高耐用性能等作用,因此,皮革涂饰质量的好坏对于提高皮革的质量起到相当重要的作用。

本申请人发现现有技术中至少存在以下技术问题;现有的真皮涂饰技术通常采用阳离子底涂来获得良好的手感和提高皮面等级,但是单纯油蜡在光泽的调整和遮盖能力方面存在不足,因此需要采用消光填料来解决光泽和遮盖能力方面的问题。现有的消光填料通常为阴离子型,而真皮阳离子底涂的pH呈酸性,阴离子型消光填料在酸性体系中不稳定,易絮凝造成喷涂不均,有白点,因此无法满足市场需求。而对于现有的哑光粉二氧化硅,其表面带有羟基,在水性体系中极易发生絮凝和沉淀,因此通常需要采用合适的分散剂进行分散,但是目前市场上常用的分散剂无法在阳离子体系中稳定的分散。

发明内容

基于上述技术问题,本发明的目的在于提供一种阳离子消光填料,此阳离子消光填料能够在阳离子体系中稳定的存在,性能稳定,在阳离子底涂中具备良好的消光能力和遮盖性,且环保安全。

本发明的另一目的在于提供一种阳离子消光填料的制备方法,通过引入阳离子高分子聚合物对二氧化硅哑光粉进行分散得稳定的哑光浆,最终制得性能稳定的阳离子消光填料,制备方法简单易操作。

本发明解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。

本发明提出一种阳离子消光填料,所述阳离子消光填料的原料至少包括如下重量份的组分:

阳离子高分子聚合物10-20份;和

高分子聚合物改性二氧化硅10-15份。

根据一种优选实施方式,所述阳离子高分子聚合物选自阳离子丙烯酸聚合物。

根据一种优选实施方式,所述高分子聚合物改性二氧化硅包括聚乙烯蜡改性二氧化硅粉末或聚酰胺蜡改性二氧化硅粉末,其中二氧化硅包括气相法二氧化硅、凝胶法二氧化硅或沉淀法二氧化硅中的一种或几种。

根据一种优选实施方式,所述阳离子消光填料的原料还包括如下重量份的组分:

润湿剂0-1份;

消泡剂0-0.1份;

非离子增稠剂0.5-2份;以及

杀菌剂0-0.2份。

根据一种优选实施方式,所述消泡剂包括矿物油类消泡剂或有机硅类消泡剂中的一种或几种。

根据一种优选实施方式,所述非离子增稠剂包括聚氨酯类增稠剂、纤维素类增稠剂、膨润土类增稠剂或气相二氧化硅类增稠剂中的一种或几种。

根据一种优选实施方式,所述杀菌剂包括氯酚类杀菌剂或异噻唑啉酮类杀菌剂中的一种或几种。

本发明还提供了一种所述的阳离子消光填料的制备方法,其特征在于,至少包括如下步骤:

将10-15份阳离子高分子聚合物与40-60份水混合形成均匀分散的聚合物溶液;以及

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于威远达威木业有限公司,未经威远达威木业有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010643567.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top