[发明专利]偏振膜及其制造方法、光学膜、以及图像显示装置

权利要求书

1.一种偏振膜，其在起偏镜的至少一面隔着粘接剂层设置有透明保护膜，

所述透明保护膜的一面为具有凸部的面，

所述粘接剂层设置于所述透明保护膜的具有凸部的面，

所述粘接剂层的厚度为1.6μm以上。

2.根据权利要求1所述的偏振膜，其中，

所述透明保护膜的具有凸部的面是将膜形成用支撑体剥离后的支撑体剥离面，

所述凸部是由于所述膜形成用支撑体表面的凹部而形成的。

3.根据权利要求1或2所述的偏振膜，其中，

所述透明保护膜为纤维素类树脂膜。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的偏振膜，其中，

所述透明保护膜的厚度为30μm以下。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的偏振膜，其中，

在所述起偏镜的贴合面具有易粘接层，该易粘接层是所述粘接剂层的一部分。

6.根据权利要求5所述的偏振膜，其中，

作为所述易粘接层的形成材料的易粘接组合物含有下述通式(1)表示的化合物和/或结构式中具有M-O键的有机金属化合物，

式(1)中，X为含有反应性基团的官能团，R¹及R²分别独立地表示氢原子、任选具有取代基的脂肪族烃基、芳基或杂环基，

M为硅、钛、铝或锆，O为氧原子。

7.根据权利要求6所述的偏振膜，其中，

所述通式(1)表示的化合物为下述通式(1’)表示的化合物，

式(1’)中，Y为有机基团，X、R¹及R²与上述含义相同。

8.根据权利要求6或7所述的偏振膜，其中，

所述通式(1)表示的化合物所具有的反应性基团是选自α,β-不饱和羰基、乙烯基、乙烯基醚基、环氧基、氧杂环丁烷基、氨基、醛基、巯基及卤素基团中的至少1种反应性基团。

9.根据权利要求6～8中任一项所述的偏振膜，其中，

所述易粘接组合物含有SP值为21.0(MJ/m³)^1/2以上且26.0(MJ/m³)^1/2以下的聚合性化合物X。

10.一种偏振膜的制造方法，该偏振膜在起偏镜的至少一面隔着粘接剂层设置有透明保护膜，

所述透明保护膜的一面为具有凸部的面，

该方法包括：

在所述透明保护膜的具有凸部的面涂敷粘接剂组合物的涂敷工序；

将所述起偏镜及所述透明保护膜贴合的贴合工序；以及

隔着厚度1.6μm以上的所述粘接剂层使所述起偏镜及所述透明保护膜粘接的粘接工序，所述粘接剂层是使所述粘接剂组合物固化而得到的。

11.根据权利要求10所述的偏振膜的制造方法，其中，

所述透明保护膜的具有凸部的面是将膜形成用支撑体剥离后的支撑体剥离面，

所述凸部是由于所述膜形成用支撑体表面的凹部而形成的。

12.根据权利要求10或11所述的偏振膜的制造方法，其中，

涂敷时的所述粘接剂组合物的粘度为0.5～100mPa·s。