[发明专利]一种钴基材抛光液及其应用有效
| 申请号： | 202010618662.0 | 申请日： | 2020-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN111635701B | 公开（公告）日： | 2021-07-09 |
| 发明（设计）人： | 刘卫丽;徐傲雪;宋志棠 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所;上海新安纳电子科技有限公司;浙江新创纳电子科技有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C23F3/04 |
| 代理公司： | 上海泰能知识产权代理事务所(普通合伙) 31233 | 代理人： | 魏峯;黄志达 |
| 地址： | 200050 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 基材 抛光 及其 应用 | ||
【权利要求书】：
1.一种钴基材抛光液，其特征在于：按重量百分比，包括如下组分：
其中，所述铵盐化合物为硫酸铵；所述抑制剂为二乙醇胺。
2.根据权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述液相载体为去离子水。
3.根据权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述磨料为二氧化硅颗粒、氧化铈颗粒或氧化铝颗粒。
4.根据权利要求3所述的抛光液，其特征在于：所述二氧化硅颗粒的粒径为5-100nm。
5.根据权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述氧化剂为NaClO、KMnO4、K2Cr2O7、双氧水中的一种或几种。
6.根据权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述抛光液的pH值范围为7.00-12.00。
7.一种如权利要求1所述的钴基材抛光液在化学机械抛光中的应用。
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