[发明专利]一种保护涂层及其制备方法

权利要求书

1.一种保护涂层，其特征在于，所述保护涂层是由基材接触等离子体，从而在所述基材表面形成的等离子体聚合涂层，所述等离子体包含单体α的等离子体，所述单体α包含式(1)所示的脂环环氧结构单元，

其中，A为3-20元的脂环结构；

所述等离子体还包含单体β的等离子体，所述单体β具有式(13)所示的结构；

其中，R₁₀、R₁₁和R₁₂分别独立的选自为氢原子、C₁－C₁₀的烷基或C₁－C₁₀的卤原子取代烷基，R₁₃、R₁₄和R₁₅分别独立的选自为氢原子、C₁－C₁₀的烷基或C₁－C₁₀的卤原子取代烷基，R₁₆为C₂－C₁₀的亚烷基或C₂－C₁₀的卤原子取代亚烷基，n为1到10的整数。

2.根据权利要求1所述的保护涂层，其特征在于，所述A为五元脂环结构或六元脂环结构。

3.根据权利要求1所述的保护涂层，其特征在于，所述单体α还包含碳碳双键结构单元、碳碳三键结构单元或环氧结构单元中的至少一个。

4.根据权利要求3所述的保护涂层，其特征在于，所述单体α具有式(2)所示的结构，

其中，R₁、R₂和R₃分别独立的选自为氢原子、C₁－C₁₀的烷基或C₁－C₁₀的卤原子取代烷基；

R₄为连接键、C₁－C₁₀的亚烷基或C₁－C₁₀的卤原子取代亚烷基。

5.根据权利要求4所述的保护涂层，其特征在于，所述R₁、R₂和R₃分别独立的选自为氢原子或甲基；所述R₄为连接键、亚甲基或亚乙基。

6.根据权利要求5所述的保护涂层，其特征在于，所述单体α具有式(3)或式(4)所示的结构

7.根据权利要求3所述的保护涂层，其特征在于，所述单体α具有式(5)所示的结构，

其中，R₅为连接键、C₁－C₁₀的亚烷基或C₁－C₁₀的卤原子取代亚烷基；

R₆为

8.根据权利要求7所述的保护涂层，其特征在于，所述单体α具有式(6)或式(7)所示的结构，

9.根据权利要求3所述的保护涂层，其特征在于，所述单体α具有式(8)所示的结构，

其中，R₇和R₉分别独立的选自为连接键、C₁－C₁₀的亚烷基或C₁－C₁₀的卤原子取代亚烷基；

R₈为C₁－C₁₀的亚烷基或C₁－C₁₀的卤原子取代亚烷基；

X和Y分别独立的选自为连接键、氧原子、羰基或酯基。