[发明专利]等离子体处理装置

权利要求书

1.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：

等离子体处理容器；

载置台，其配置在所述处理容器内，具有基板载置部分和聚焦环载置部分，所述聚焦环载置部分包围所述基板载置部分；

配置在所述聚焦环载置部分上的聚焦环；

设置在所述聚焦环载置部分的内部的第1电极和第2电极；

直流电源，其对所述第1电极施加第1直流电压，对所述第2电极施加第2直流电压；以及

控制部，其控制所述直流电源，以对所述第1直流电压和所述第2直流电压各自的极性独立且周期地进行切换。

2.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述控制部控制所述直流电源，以在所述载置台与所述聚焦环之间发生电荷的迁移之前切换所述第1直流电压和所述第2直流电压各自的极性。

3.如权利要求2所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述极性的切换周期基于与施加到电极的直流电压相应的电力密度被决定。

4.如权利要求2所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述极性的切换周期基于在所述聚焦环与所述载置台之间流动的导热气体的流量被决定。

5.如权利要求1或2所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述第1直流电源的极性的切换与所述第2直流电源的极性的切换同时进行。

6.如权利要求1或2所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述第2直流电源的极性的切换在所述第1直流电源的极性的切换之后进行。

7.如权利要求1或2所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述第1电极和所述第2电极沿所述聚焦环的周向排列。

8.如权利要求1或2所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述第1电极和所述第2电极沿所述聚焦环的径向排列。